[实用新型]一种用于真空等离子体设备的匀气环有效
| 申请号： | 202020567761.6 | 申请日： | 2020-04-16 |
| 公开（公告）号： | CN212010899U | 公开（公告）日： | 2020-11-24 |
| 发明（设计）人： | 彭帆;漆宏俊;夏欢 | 申请（专利权）人： | 上海稷以科技有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 200240 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 真空 等离子体 设备 匀气环 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于真空等离子体设备的匀气环，包括等离子体区域（1）、气体喷淋盘（2）、上腔体（3）、下腔体（4）和下电极（8），所述气体喷淋盘（2）和下电极（8）之间为等离子体区域（1），等离子体区域（1）的一侧设有上腔体（3）和下腔体（4），下电极（8）和下腔体（4）之间设有排气环（5），其特征在于，所述下腔体（4）与排气环（5）之间设有排气通道（9）。
2.根据权利要求1所述的一种用于真空等离子体设备的匀气环，其特征在于，所述气体喷淋盘（2）上设有上电极。
3.根据权利要求1所述的一种用于真空等离子体设备的匀气环，其特征在于，所述等离子体区域（1）内设有样品（7）。
4.根据权利要求1所述的一种用于真空等离子体设备的匀气环，其特征在于，所述排气通道（9）的深宽比为15:1~40:1。
5.根据权利要求2所述的一种用于真空等离子体设备的匀气环，其特征在于，所述排气通道（9）入口与上下电极之间形成的电场方形垂直。
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