[实用新型]一种底面具有凹凸结构的保持环和承载头

权利要求书

1.一种底面具有凹凸结构的保持环，其特征在于，所述保持环由环形部构成，所述环形部由金属部和非金属部层叠胶合而成；所述环形部包括顶面、底面、外侧面和内侧面，所述顶面用于与承载头固定连接，所述底面用于与抛光表面抵接，所述外侧面设置于环形部的外侧并连接顶面与底面，所述内侧面设置于环形部的内侧并连接顶面与底面，所述底面设置有连通内侧面和外侧面的供液槽；所述顶面设置有孔径不同的螺纹孔，所述螺纹孔位于所述供液槽的竖直上方，使得固定于承载头的保持环的底面形成高度不同的凹凸。

2.如权利要求1所述的保持环，其特征在于，所述螺纹孔相对于环形部的中心对称分布，相邻螺纹孔距环形部中心的距离不相等。

3.如权利要求1所述的保持环，其特征在于，相邻螺纹孔的螺孔孔径不相等。

4.如权利要求2所述的保持环，其特征在于，环形部内侧的螺纹孔与外侧面的距离为环形部宽度的1/4-1/2。

5.如权利要求2所述的保持环，其特征在于，环形部外侧的螺纹孔与外侧面的距离为环形部宽度的1/2-2/3。

6.如权利要求1所述的保持环，其特征在于，所述保持环的底面的平面度介于5μm-10μm。

7.如权利要求1所述的保持环，其特征在于，所述螺纹孔内设置有螺纹套，所述螺纹套为钢丝螺纹套，所述钢丝螺纹套的表面涂覆有保护涂层。

8.如权利要求7所述的保持环，其特征在于，所述保护涂层为聚四氟乙烯。

9.如权利要求1所述的保持环，其特征在于，相邻螺纹孔的螺孔深度不相等。

10.一种承载头，用于化学机械抛光，其特征在于：包括权利要求1-9任一项所述的保持环。