[实用新型]全氟烷基烷氧基硅烷的制备装置

说明书

本实用新型公开了一种全氟烷基烷氧基硅烷的制备装置，其包括锁扣、配电箱门、配电箱体、全氟烷基烷氧基硅烷气体管、操作机构、压力表、搅拌杆、加压块、散热板、反应箱、输气管、滑板、滑块、支架、泵、轨道、底座、加压管、加料口，锁扣位于配电箱门的一端，配电箱门位于配电箱体的一端，配电箱体位于操作机构的一端，操作机构位于全氟烷基烷氧基硅烷气体管的一侧，全氟烷基烷氧基硅烷气体管位于反应箱的一端，反应箱与输气管连接且位于泵的一侧，泵位于支架的顶端，支架位于滑板的上方等。本实用新型全氟烷基烷氧基硅烷的制备装置能够提高全氟烷基烷氧基硅烷的产出效率，提高其质量和纯度，具有极高的安全性保障。

技术领域

本实用新型涉及一种制备装置，特别是涉及一种全氟烷基烷氧基硅烷的制备装置。

背景技术

现有的全氟烷基烷氧基硅烷制备装置的全氟烷基烷氧基硅烷的产出效率极低，质量和纯度差，没有安全性保障。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是提供一种全氟烷基烷氧基硅烷的制备装置，其能够提高全氟烷基烷氧基硅烷的产出效率，提高其质量和纯度，具有极高的安全性保障。

本实用新型是通过下述技术方案来解决上述技术问题的：一种全氟烷基烷氧基硅烷的制备装置，其特征在于，其包括锁扣、配电箱门、配电箱体、全氟烷基烷氧基硅烷气体管、操作机构、压力表、搅拌杆、加压块、散热板、反应箱、输气管、滑板、滑块、支架、泵、轨道、底座、加压管、加料口，锁扣位于配电箱门的一端，配电箱门位于配电箱体的一端，配电箱体位于操作机构的一端，操作机构位于全氟烷基烷氧基硅烷气体管的一侧，全氟烷基烷氧基硅烷气体管位于反应箱的一端，反应箱与输气管连接且位于泵的一侧，泵位于支架的顶端，支架位于滑板的上方，滑板通过滑块与轨道滑动连接，轨道位于底座的一端，底座与加压管连接且位于加料口的一侧，加料口位于配电箱体的一端，加压块位于搅拌杆的底端，搅拌杆位于散热板的上方，散热板位于反应箱的一端，压力表位于全氟烷基烷氧基硅烷气体管的一端，其中：

操作机构包括仪表盘、箱体、按键，仪表盘位于箱体的一端，按键位于仪表盘的下方。

优选地，所述加压块设有凸块。

优选地，所述散热板设有凹槽。

优选地，所述底座设有定位螺母。

优选地，所述加料口设有凹槽。

本实用新型的积极进步效果在于：本实用新型全氟烷基烷氧基硅烷的制备装置能够提高全氟烷基烷氧基硅烷的产出效率，提高其质量和纯度，具有极高的安全性保障。

附图说明

图1为本实用新型的整体结构图。

图2为本实用新型的操作机构结构图。

具体实施方式

下面结合附图给出本实用新型较佳实施例，以详细说明本实用新型的技术方案。

如图1至图2所示，本实用新型全氟烷基烷氧基硅烷的制备装置包括锁扣1、配电箱门2、配电箱体3、全氟烷基烷氧基硅烷气体管4、操作机构5、压力表6、搅拌杆7、加压块8、散热板9、反应箱10、输气管11、滑板12、滑块13、支架14、泵15、轨道16、底座17、加压管18、加料口19，锁扣1位于配电箱门2的一端，配电箱门2位于配电箱体3的一端，配电箱体3位于操作机构5的一端，操作机构5位于全氟烷基烷氧基硅烷气体管4的一侧，全氟烷基烷氧基硅烷气体管4位于反应箱10的一端，反应箱10与输气管11连接且位于泵15的一侧，泵15位于支架14的顶端，支架14位于滑板12的上方，滑板12通过滑块13与轨道16滑动连接，轨道16位于底座17的一端，底座17与加压管18连接且位于加料口19的一侧，加料口19位于配电箱体3的一端，加压块8位于搅拌杆7的底端，搅拌杆7位于散热板9的上方，散热板9位于反应箱10的一端，压力表6位于全氟烷基烷氧基硅烷气体管4的一端，其中：