[实用新型]一种磁混凝高密度沉淀池集水槽抗浮装置有效

专利信息
申请号: 202020594936.2 申请日: 2020-04-20
公开(公告)号: CN212050673U 公开(公告)日: 2020-12-01
发明(设计)人: 蒋雨辰;王陆军 申请(专利权)人: 北京沃尔德斯水务科技有限公司
主分类号: C02F1/48 分类号: C02F1/48;C02F1/52
代理公司: 北京绘聚高科知识产权代理事务所(普通合伙) 11832 代理人: 罗硕
地址: 102308 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 磁混凝 高密度 沉淀 集水 槽抗浮 装置
【权利要求书】:

1.一种磁混凝高密度沉淀池集水槽抗浮装置,包括集水槽(1),其特征在于,所述集水槽(1)的底壁上至少开设有一个抗浮孔(2),所述抗浮孔(2)的上方设置有与所述集水槽(1)的侧壁固定连接的定位板(8),所述定位板(8)上设有通孔(9),所述通孔(9)内间隙配合设置有固定杆(6),所述固定杆(6)上贯穿设置有密封垫(3),所述密封垫(3)上端设置有压板(4),所述固定杆(6)贯穿所述压板(4),所述压板(4)与所述密封垫(3)通过紧固机构固定,所述压板(4)与定位板(8)之间抵接有弹簧(7),所述弹簧(7)套设在固定杆(6)上,所述密封垫(3)位于所述抗浮孔(2)的正上方,所述密封垫(3)的直径大于所述抗浮孔(2)的直径。

2.根据权利要求1所述的一种磁混凝高密度沉淀池集水槽抗浮装置,其特征在于,所述紧固机构包括开设在固定杆(6)下端位置的外螺纹段(10),所述外螺纹段(10)的两端均螺纹连接有固定螺母(5),两个所述固定螺母(5)分别与所述压板(4)与所述密封垫(3)相抵接。

3.根据权利要求1所述的一种磁混凝高密度沉淀池集水槽抗浮装置,其特征在于,所述抗浮孔(2)设置有多个。

4.根据权利要求3所述的一种磁混凝高密度沉淀池集水槽抗浮装置,其特征在于,多个所述抗浮孔(2)沿集水槽(1)的长度方向等距离设置。

5.根据权利要求1所述的一种磁混凝高密度沉淀池集水槽抗浮装置,其特征在于,所述通孔(9)位于所述定位板(8)的中部位置,所述通孔(9)的数量与所述抗浮孔(2)相适配。

6.根据权利要求1所述的一种磁混凝高密度沉淀池集水槽抗浮装置,其特征在于,所述密封垫(3)下端固定连接有密封台(11),所述密封台(11)的直径小于抗浮孔(2)的直径。

7.根据权利要求1所述的一种磁混凝高密度沉淀池集水槽抗浮装置,其特征在于,所述压板(4)为不锈钢材料制成。

8.根据权利要求1所述的一种磁混凝高密度沉淀池集水槽抗浮装置,其特征在于,所述密封垫(3)为橡胶密封垫。

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