[实用新型]一种维护显影溶液稳定性的结构

说明书

本实用新型公开了一种维护显影溶液稳定性的结构，包括外壳和导向块，所述外壳的内部开设有溶液槽，所述溶液槽的内部设置有提升盒。本实用新型通过设置的密封板，当溶液槽与提升盒内的溶液稳定性PH值降低到一定程度时，PLC控制装置启动防水步进电机，防水步进电机带动密封板转动，通过密封板对连通槽进行密封，避免提升盒与溶液槽内的显影溶液发生串流，之后使补充的显影溶液通过进液口进入溶液槽的内部，提升盒底部的液压上升，使提升盒向上移动，当连通口与出液口重合时，PH值低的显影溶液通过出液口流出到污水回收装置内，避免在排放pH值低的显影溶液时，PH值较高的显影溶液与pH值低的显影溶液发生中和。

技术领域

本实用新型涉及显影溶液技术领域，具体为一种维护显影溶液稳定性的结构。

背景技术

常见制作SMT掩膜板的工艺包括电铸、蚀刻、激光切割，其中电铸和蚀刻工艺都涉及到显影环节，电铸或蚀刻制作SMT掩膜板时，都需要对曝光的干膜进行显影，显影波的稳定对显影质量的影响非常大，而随着干膜显影的进行，显影液的pH值会逐渐下降，需要维护显影溶液稳定性。

目前的维护显影溶液稳定性的结构虽然种类和数量非常多，但现有的维护显影溶液稳定性的结构仍存在了一定的问题，对维护显影溶液稳定性的结构的使用带来一定的不便。

现有的维护显影溶液稳定性的结构，请参阅申请号：201210065006.8中，通过直接补充PH值较高的显影溶液，使pH值低的显影溶液通过溢流的方式进行排放，使PH值较高的显影溶液与pH值低的显影溶液发生中和，导致需要补充的显影溶液多于原先的显影溶液，造成浪费，不便使用。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种维护显影溶液稳定性的结构，解决了现有的维护显影溶液稳定性的结构，如申请号：201210065006.8中，通过直接补充PH值较高的显影溶液，使pH值低的显影溶液通过溢流的方式进行排放，使PH值较高的显影溶液与pH值低的显影溶液发生中和，导致需要补充的显影溶液多于原先的显影溶液，造成浪费，不便使用的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种维护显影溶液稳定性的结构，包括外壳和导向块，所述外壳的内部开设有溶液槽，所述溶液槽的内部设置有提升盒，所述外壳靠近提升盒的四侧开设有导向槽，其中，

所述导向块固定在提升盒靠近导向槽的一侧，所述提升盒的底面中部贯穿有连通槽，所述连通槽的内部转动连接有密封板，所述提升盒靠近密封板的一侧开设有转动杆槽，所述密封板靠近转动杆槽的一侧固定有转动杆，所述提升盒靠近转动杆槽的一端内部开设有传动槽；

所述转动杆位于传动槽内的一端固定有第一齿轮，所述提升盒的底部一侧安装有防水步进电机，所述防水步进电机靠近第一齿轮的一侧连接有第二齿轮，所述提升盒靠近内侧底部一侧贯穿有连通口，所述外壳靠近溶液槽的底部一侧贯穿有进液口，所述外壳靠近连通口的一侧中部贯穿有出液口。

优选的，所述提升盒的外侧套有密封圈，所述密封圈的水平高度大于连通口上端的水平高度。

优选的，所述导向块的截面为矩形，且导向块与导向槽构成导向结构。

优选的，所述密封板通过转动杆与提升盒构成转动连接，且密封板的外径与连通槽的内径相吻合。

优选的，所述第一齿轮与第二齿轮相互垂直，且第一齿轮与第二齿轮的齿距相等，并且第一齿轮与第二齿轮构成啮合结构。

优选的，所述连通口到出液口的垂直距离小于导向块到导向槽顶部的垂直距离。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果如下：