[实用新型]一种可防止二次污染的电镀废水处理罐

说明书

本实用新型涉及废水处理技术领域，具体地说，涉及一种可防止二次污染的电镀废水处理罐，包括处理罐主体，处理罐主体安装在盛接装置上，盛接装置包括底座和盛接斗，底座的顶端开设有盛接腔，底座的外端面处安装有出液阀，出液阀的口部套设有软管，软管的末端伸向集中装置，集中装置包括地埋箱、套盒以及收集罐，软管的末端伸入到收集罐内。该可防止二次污染的电镀废水处理罐，通过设置的盛接装置和盛接装置，使得处理罐主体处理电镀废水过程中渗漏出的电镀废水会被盛接装置收集后通过软管输送至收集罐内，以便进行集中处理，防止渗漏的电镀废水因直接滴在处理罐主体附近的底面上而造成的二次污染。

技术领域

本实用新型涉及废水处理技术领域，具体地说，涉及一种可防止二次污染的电镀废水处理罐。

背景技术

电镀废水为电镀作业过程中产生各种废水的总称，电镀废水需要进行处理至排放标准后才能直接排放，电镀废水的常用处理装置为电镀废水处理罐。由于电镀废水处理罐在进行电镀废水的处理过程中，随着电镀废水的不断输送，会有部分电镀废水从电镀废水处理罐的接口等位置处向外渗漏，导致电镀废水滴落在地上，造成二次污染。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种可防止二次污染的电镀废水处理罐，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

一种可防止二次污染的电镀废水处理罐，包括处理罐主体，所述处理罐主体的底端安装有若干支撑脚，所述处理罐主体安装在盛接装置上，所述盛接装置包括位于处理罐主体下方的底座和紧密焊接在底座顶端外围处的盛接斗，所述底座的顶端开设有盛接腔，盛接腔的腔底处一体成型有和支撑脚位置相对应的支撑座，底座的外端面处安装有和盛接腔相连通的出液阀，出液阀的口部套设有软管，软管的末端伸向集中装置，所述集中装置包括半埋设于地下的敞口状地埋箱、套接在地埋箱内的敞口状套盒以及放置在套盒内的收集罐，软管的末端伸入到收集罐内。

作为优选，所述支撑座的数量与支撑脚的数量相等且位置一一对应，支撑脚的底端通过螺栓与支撑座固定连接。

作为优选，所述盛接腔的腔底处开设有伸向出液阀的流液槽。

作为优选，所述盛接斗整体呈空心的倒梯台状结构，盛接斗将处理罐主体的底部罩接在内。

作为优选，所述套盒的顶端一体成型有空心倒梯台状的凸沿，凸沿上对称开设有提口。

作为优选，所述收集罐的顶端开设有和收集罐内部相连通的罐口，收集罐顶端一体成型有若干提手。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

该可防止二次污染的电镀废水处理罐，通过设置在处理罐主体底端的盛接装置和侧端的集中装置并使用软管将盛接装置与集中装置上的收集罐连接，使得处理罐主体处理电镀废水过程中渗漏出的电镀废水会被盛接装置收集后通过软管输送至收集罐内，以便进行集中处理，防止渗漏的电镀废水因直接滴在处理罐主体附近的底面上而造成的二次污染。

附图说明

图1为实施例1的整体结构示意图；

图2为实施例1中处理罐主体的结构示意图；

图3为实施例1中盛接装置的结构示意图；

图4为实施例1中集中装置的结构示意图。

图中：1、处理罐主体；11、支撑脚；2、盛接装置；21、底座；211、盛接腔；212、支撑座；213、流液槽；214、出液阀；215、软管；22、盛接斗；3、集中装置；31、地埋箱；32、套盒；321、凸沿；322、提口；33、收集罐；331、罐口；332、提手。

具体实施方式