[实用新型]晶圆封装单片湿法去胶机有效
申请号: | 202020622397.9 | 申请日: | 2020-04-23 |
公开(公告)号: | CN211629048U | 公开(公告)日: | 2020-10-02 |
发明(设计)人: | 柳直;郭勇;夏志云 | 申请(专利权)人: | 苏州光宝科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 苏州新知行知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32414 | 代理人: | 郑丽玲 |
地址: | 215000 江苏省苏州市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 封装 单片 湿法 去胶机 | ||
1.一种晶圆封装单片湿法去胶机,包括安装在机架上的腔体和底板,所述腔体设置在底板上,所述底板上设置有若干排液口,其特征在于:所述底板上设有工艺转台,所述工艺转台外的底板上设有供液转臂,所述供液转臂包括可升降旋转安装柱、套管、悬臂和喷头,所述套管套设在可升降旋转安装柱上,所述套管的上端设置悬臂,所述悬臂的末端通过喷头安装块安装有喷头,所述喷头包括喷头本体、分流片、分流座和喷头基座,所述喷头本体与分流座配合连接,所述分流片设置在喷头本体与分流座之间,所述分流座与喷头基座紧配合。
2.根据权利要求1所述的晶圆封装单片湿法去胶机,其特征在于:所述分流座中间设有凸台,所述凸台的四周设有通孔,所述喷头本体上设有与凸台相配合的环圈,所述喷头基座的内径与分流座的外径相配合。
3.根据权利要求2所述的晶圆封装单片湿法去胶机,其特征在于:所述分流片上开设有缺口,所述缺口为与通孔相适应的各孔联通而成。
4.根据权利要求2所述的晶圆封装单片湿法去胶机,其特征在于:所述喷头基座内壁上设有一圈挡环。
5.根据权利要求1所述的晶圆封装单片湿法去胶机,其特征在于:所述可升降旋转安装柱与一电机的输出轴连接,所述电机安装在一安装板上,所述安装板下方通过支撑柱连接一支撑板,所述支撑板与一气缸的活塞杆连接,所述气缸安装在U形安装架上,所述U形安装架的上端与底板连接。
6.根据权利要求1所述的晶圆封装单片湿法去胶机,其特征在于:所述供液转臂设置有三个。
7.根据权利要求1所述的晶圆封装单片湿法去胶机,其特征在于:所述腔体由带把手的顶盖、前侧板、左侧板、后侧板和右侧板组成,所述左侧板、后侧板和右侧板为一体结构。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州光宝科技股份有限公司,未经苏州光宝科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202020622397.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:芯片前道堆叠式涂胶显影机
- 下一篇:一种新型铰链式开关柜门
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造