[实用新型]一种带有凸起结构的化学机械抛光垫有效
| 申请号： | 202020630116.4 | 申请日： | 2020-04-23 |
| 公开（公告）号： | CN211992444U | 公开（公告）日： | 2020-11-24 |
| 发明（设计）人： | 朱文献 | 申请（专利权）人： | 昂士特科技（深圳）有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/26 | 分类号： | B24B37/26 |
| 代理公司： | 深圳市中科创为专利代理有限公司 44384 | 代理人： | 梁炎芳;谭雪婷 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市南山区桃源*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 带有 凸起 结构 化学 机械抛光 | ||
【权利要求书】：
1.一种带有凸起结构的化学机械抛光垫，其特征在于，包括：抛光垫基板和均匀分布设置在所述抛光垫基板上的若干凸起，相邻的两所述凸起间隔设置形成有沟槽；每一所述凸起的顶面呈内凹球面或外凸球面设置；所述内凹球面或所述外凸球面的半径小于所述凸起的高度。
2.如权利要求1所述的带有凸起结构的化学机械抛光垫，其特征在于，所述凸起呈圆柱状设置，所述沟槽的宽度大于所述凸起的直径。
3.如权利要求1所述的带有凸起结构的化学机械抛光垫，其特征在于，所述凸起呈梯形台体设置，所述凸起的顶面为正多边形。
4.如权利要求1所述的带有凸起结构的化学机械抛光垫，其特征在于，所述抛光垫基板和所述凸起的材质一致。
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