[实用新型]煎烤机

权利要求书

1.一种煎烤机，其特征在于，包括：

底座组件，所述底座组件包括底座以及设于所述底座的第一加热烤盘；

上盖组件，所述上盖组件设于所述底座组件且所述上盖组件被配置为与所述底座组件之间限定有煎烤腔，

其中，所述第一加热烤盘的朝向所述上盖组件的一侧具有第一煎烤面和储水槽，所述储水槽用于向所述煎烤腔提供水蒸气，所述储水槽的底面低于所述第一煎烤面。

2.根据权利要求1所述的煎烤机，其特征在于，所述储水槽位于所述第一煎烤面的外侧且围绕所述第一煎烤面的外边沿设置，所述煎烤腔的横截面为圆形，所述储水槽为封闭的圆环形，所述储水槽与所述煎烤腔同心设置。

3.根据权利要求1所述的煎烤机，其特征在于，所述储水槽与所述第一煎烤面之间设有围边，所述围边沿所述第一煎烤面的周向向上延伸且形成为封闭的环形。

4.根据权利要求1所述的煎烤机，其特征在于，所述底座组件具有加水口，所述加水口与所述储水槽连通。

5.根据权利要求4所述的煎烤机，其特征在于，所述加水口处设有遮挡板，所述遮挡板用于遮挡所述上盖组件和/或所述底座组件。

6.根据权利要求4所述的煎烤机，其特征在于，所述加水口在水平面的投影的至少一部分位于所述上盖组件在所述水平面的投影的外侧。

7.根据权利要求1所述的煎烤机，其特征在于，所述上盖组件的朝向所述第一加热烤盘的一侧具有回流结构，所述回流结构的至少一部分位于所述储水槽的上方以使部分所述水蒸气在所述上盖组件形成的水回落至所述储水槽。

8.根据权利要求7所述的煎烤机，其特征在于，所述储水槽形成沿所述第一煎烤面的周向延伸的环形，所述回流结构形成与所述储水槽的形状对应的环形，以使所述回流结构与所述储水槽相适配。

9.根据权利要求7所述的煎烤机，其特征在于，所述回流结构包括导向面，所述导向面的至少一部分位于所述储水槽的正上方，且所述导向面由所述上盖组件的中部至所述上盖组件的外边沿逐渐朝向所述第一加热烤盘倾斜延伸。

10.根据权利要求7-9中任一项所述的煎烤机，其特征在于，所述回流结构包括回流筋，所述回流筋朝向所述储水槽延伸。

11.根据权利要求10所述的煎烤机，其特征在于，所述储水槽具有靠近所述第一加热烤盘的中部的第一内侧壁以及远离所述第一加热烤盘的中部的第二内侧壁，所述回流筋位于所述储水槽的正上方且靠近所述第二内侧壁。

12.根据权利要求7所述的煎烤机，其特征在于，所述上盖组件包括上盖和设于所述上盖的第二加热烤盘，所述第二加热烤盘被配置为与所述第一加热烤盘之间限定出所述煎烤腔，所述回流结构设于所述第二加热烤盘的朝向所述第一加热烤盘的一侧。

13.根据权利要求1所述的煎烤机，其特征在于，所述储水槽的容积为10-30毫升。

14.根据权利要求1所述的煎烤机，其特征在于，还包括控制器和用于提醒用户加水的提醒装置，所述控制器在所述煎烤机工作预定时间后控制所述提醒装置发出加水提醒。

15.根据权利要求14所述的煎烤机，其特征在于，所述煎烤机的烹饪用时为T，所述预定时间大于或等于0.75T。