[实用新型]一种堆叠式光波导结构有效

专利信息
申请号: 202020633630.3 申请日: 2020-04-24
公开(公告)号: CN212111857U 公开(公告)日: 2020-12-08
发明(设计)人: 黄向向;杨敏;道格拉斯·雷·斯巴克斯;关健;张晓磊 申请(专利权)人: 罕王微电子(辽宁)有限公司
主分类号: G02B6/12 分类号: G02B6/12;G02B6/13;G02B6/136
代理公司: 沈阳晨创科技专利代理有限责任公司 21001 代理人: 张晨
地址: 113000 辽宁省抚顺*** 国省代码: 辽宁;21
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 堆叠 波导 结构
【说明书】:

一种堆叠式光波导结构,包括衬底晶圆,光波导层,光纤,光纤底座,键合界面;衬底晶圆之间带有键合界面,衬底晶圆上带有光波导层,在衬底晶圆上带有光纤底座,光纤固定在光纤底座上,多层衬底晶圆为整体结构,实现堆叠式多光波导器件;在衬底晶圆上利用刻蚀方法,制作出光纤底座,光纤固定在光纤底座上,利用晶圆键合方法,将多层衬底晶圆,通过硅‑硅直接键合、等离子激活硅硅键合、氧化层‑氧化层键合、氮化层‑氮化层键合的方法结合成整体,实现堆叠式多光波导器件。本实用新型的优点:应用于平面光波方向改变,光束分裂,以及光束干涉,从而传递光信号,结构和工艺性能稳定,传输损耗小。

技术领域

本实用新型涉及堆叠式光波导领域,特别涉及了一种堆叠式光波导结构。

背景技术

叠层光波导技术,具体涉及利用多层平面光波导结构实现数据信息的三维记录和读取的方法,叠层波导存储器由多片平面光学波导叠合而成,目前产品中,结构和工艺稳定性是迫切需要解决的问题,同时波导传输损耗较大。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了克服上述问题,特提供了一种堆叠式光波导结构。

本实用新型提供了一种堆叠式光波导结构,其特征在于:所述的堆叠式光波导结构,包括衬底晶圆1,光波导层2,光纤3,光纤底座4,键合界面5;

其中:衬底晶圆1之间带有键合界面5,衬底晶圆1上带有光波导层2,在衬底晶圆1上带有光纤底座4,光纤3固定在光纤底座4上,多层衬底晶圆1为整体结构,实现堆叠式多光波导器件。

所述的衬底晶圆1为多层结构,下面各层设有凹槽,凹槽内布置光纤3,顶上面一层为盖状结构。

所述的衬底晶圆1为优选为三层结构,下面两层设有凹槽,凹槽内布置光纤3,顶上面一层为盖状结构。

在衬底晶圆1上利用刻蚀方法,制作出光纤底座4,光纤3固定在光纤底座4上,利用晶圆键合方法,将多层衬底晶圆1,通过硅-硅直接键合、等离子激活硅硅键合、氧化层-氧化层键合、氮化层-氮化层键合的方法结合成整体,实现堆叠式多光波导器件。

所述的衬底晶圆1:由硅、砷化镓、玻璃材料组成,作为光纤底座基底材料和光波导支撑。

所述的光波导层2:由玻璃/二氧化硅、铌酸锂、III-V族半导体化合物、绝缘体上的硅、氮化硅、氮氧化硅、高分子聚合物的一种或多种材料组成,是平面光信号传输途径,由薄膜沉积、光刻、刻蚀工艺制作。

所述的光纤3:由玻璃或塑料组成,作为光传导工具;光纤底座4:利用刻蚀技术在衬底晶圆1上刻蚀出的光纤底座。

所述的键合界面5:利用晶圆键合技术,将不同的衬底晶圆1堆叠、键合成为整体的界面;是硅-硅直接键合、等离子激活硅硅键合、氧化层-氧化层键合、氮化层-氮化层键合方法中的一种或多种结合。

所述的堆叠式光波导由衬底晶圆1以及生长在衬底晶圆1上的光波导层2,以及用于传输光信号的光纤3组成。

叠层光波导是利用多片晶圆键合叠加形成光波导带,并在晶圆利用刻蚀工艺形成光纤底座,从而使得光纤与光波导连接,叠层光波导其具有3D结构,可应用于平面光波方向改变,光束分裂,以及光束干涉,从而传递光信号。

堆叠式光波导由衬底晶圆1,以及生长在衬底晶圆1上的光波导层2,以及用于传输光信号的光纤3组成。在衬底晶圆1上利用刻蚀技术,制作出光纤底座4,将光纤3固定在光纤底座4上,利用晶圆键合技术,将多层衬底晶圆1,通过硅-硅直接键合、等离子激活硅硅键合、氧化层-氧化层键合、氮化层-氮化层键合等技术结合成整体,实现堆叠式多光波导器件。

本实用新型的优点:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于罕王微电子(辽宁)有限公司,未经罕王微电子(辽宁)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202020633630.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top