[实用新型]一种基片自动定位装置

说明书

本实用新型公开了一种基片自动定位装置，真空吸盘上表面用于铺设基片，真空吸盘左右两侧对称设有驱动机构，驱动机构上装配有定位部；定位部包括远离真空吸盘一侧固定装配于驱动机构活动部的支撑杆，支撑杆靠近真空吸盘一侧固定装配有定位叉；在旋涂前，使用本实用新型的定位装置定位圆心，不接触基片表面，避免了污染和损坏基片上的纳米结构，提高了定位精度和稳定性，有利于胶层厚度的一致性和均匀性；基片的圆心与真空吸盘的中心同轴，能够令真空吸附力分布更加均匀，避免基片在高速旋转时上下颠簸，避免“飞片”现象的发生；定位装置可以定位多种尺寸的基片；本实用新型实现智能化生产，实现基片快速对中定位，提高生产效率。

技术领域

本实用新型涉及自动定位装置技术领域，具体为一种基片自动定位装置。

背景技术

纳米压印技术是在微纳尺寸获得复制结构的一种成本低且快速的方法，通过光刻胶辅助，将模板上的微纳结构转移到待加工材料上的技术。

纳米压印的基本步骤包括在基片上涂覆胶液，压印，固化，分离等。要想实现图形的精确复制和转移，光刻胶在基片上的均匀涂覆是非常重要的一步。压印胶的涂覆方式有旋涂、滴胶、滚涂等方式，其中旋涂最为常见。旋涂原理即在高速旋转的基片上，滴注各类胶液，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上，厚度视不同胶液，旋转速度，旋转时间和基片间的粘滞系数而不同。

在旋涂开始之前，基片需放置在旋涂设备的真空吸盘中心处，基片中心与真空吸盘同轴。基片圆心位置的准确定位尤为重要，一旦基片圆心偏离真空吸盘的中心，基片会在旋转的过程中发生偏移，导致基片在高速旋转时呈时高时低的颠簸状态，旋涂效果较差，影响基片旋转的稳定性，进而影响胶层厚度的一致性和均匀性。在自动点胶的过程中，点胶装置自动把胶体滴加在真空吸盘中心的正上方，如果基片的圆心与真空吸盘的中心不同轴，滴加胶体偏离基片的圆心，旋涂后将导致胶体无法完全覆盖基片的问题，降低生产效率，增加生产成本。严重时基片甚至会在旋转的过程中向外飞出，导致基片破裂，增加生产成本。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种基片自动定位装置，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种基片自动定位装置，包括真空吸盘，所述真空吸盘用于上表面铺设基片，所述真空吸盘左右两侧对称设有驱动机构，所述驱动机构上装配有定位部；

所述定位部包括远离真空吸盘一侧固定装配于驱动机构活动部的支撑杆，所述支撑杆靠近真空吸盘一侧固定装配有定位叉，且定位叉呈“V”字形。

优选的，所述驱动机构包括与真空吸盘垂直排列的丝杠，所述丝杠远离真空吸盘一端固定装配有电机输出端，且电机与外部控制器电性连接，所述丝杠靠近真空吸盘另一端转动装配有限位固定块，所述丝杠的外侧螺接有移动块，且支撑杆远离真空吸盘一侧固定装配于移动块上端，所述限位固定块和移动块之间固定连接有导向杆，且导向杆贯穿移动块。

优选的，所述移动块上固定装配有测距传感器，且测距传感器与外部控制器电性连接。

与现有技术相比，本方案设计了一种基片自动定位装置，具有下述有益效果：

(1)在旋涂前，使用本实用新型的定位装置定位圆心，不接触基片表面，避免了污染和损坏基片上的纳米结构，提高了定位精度和稳定性，有利于胶层厚度的一致性和均匀性。

(2)基片的圆心与真空吸盘的中心同轴，能够令真空吸附力分布更加均匀，避免基片在高速旋转时上下颠簸，避免“飞片”现象的发生。

(3)本实用新型的定位装置可以定位多种尺寸的基片。

(4)本实用新型的定位装置可代替人工操作，可24小时工作，实现智能化生产，避免人为因素对生产造成的影响，实现基片快速对中定位，提高生产效率。

附图说明