[实用新型]显影机喷嘴的清洁装置有效
申请号: | 202020648883.8 | 申请日: | 2020-04-26 |
公开(公告)号: | CN212009276U | 公开(公告)日: | 2020-11-24 |
发明(设计)人: | 张佳健 | 申请(专利权)人: | 上海华力集成电路制造有限公司 |
主分类号: | G03F7/30 | 分类号: | G03F7/30;B08B3/12 |
代理公司: | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人: | 郭立 |
地址: | 201315 上海市浦东新区中国(上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显影 喷嘴 清洁 装置 | ||
1.一种显影机喷嘴的清洁装置,其特征在于,包括:
超声波发生器,所述超声波发生器能产生超声波;
第一容器,所述第一容器中用以装载第一液体,所述超声波发生器与所述第一容器的外壁连接;
第二容器,所述第二容器中用以装载第二液体,所述第二液体用以容置所述显影机喷嘴;
所述第二容器位于所述第一容器内部,当所述第一容器中装载所述第一液体时,所述第二容器外壁位于所述第一容器的第一液体中。
2.如权利要求1所述显影机喷嘴的清洁装置,其特征在于,所述第一容器为敞口长方体形容器,所述超声波发生器贴设于所述第一容器的底部、或侧部;所述第二容器为敞口圆柱体容器。
3.如权利要求1所述显影机喷嘴的清洁装置,其特征在于,所述第一液体为水。
4.如权利要求3所述显影机喷嘴的清洁装置,其特征在于,所述第一液体为去离子水或超纯水。
5.如权利要求1所述显影机喷嘴的清洁装置,其特征在于,所述第二液体为去离子水或超纯水或显影液。
6.如权利要求1所述显影机喷嘴的清洁装置,其特征在于,
所述第一容器设有第一供液系统,所述第一供液系统包含第一供液管路、第一控制阀,用以连接机台的第一液体源;所述第一容器还设有第一排液系统,所述第一排液系统包含第一排液管路,所述第一排液管路用以连接机台的液体回收装置;
所述第二容器设有第二供液系统,所述第二供液系统包含第二供液管路、第二控制阀,用以连接机台的第二液体源;所述第二容器还设有第二排液系统,所述第二排液系统包含第二排液管路,所述第二排液管路用以连接机台的液体回收装置。
7.如权利要求6所述显影机喷嘴的清洁装置,其特征在于,所述超声波发生器的启动电路上连接超声波开关;
所述第二控制阀开启后,第二液体浸没所述显影机喷嘴,所述第二控制阀关闭,超声波开关接通电路用以发出超声波。
8.如权利要求1所述显影机喷嘴的清洁装置,其特征在于,还包括:
气体喷嘴,所述气体喷嘴与机台的氮气源连接,通过气体阀用以将氮气从所述气体喷嘴中吹出,所述气体喷嘴设置于所述第二容器处,所述气体喷嘴对准所述显影机喷嘴设置。
9.如权利要求8所述显影机喷嘴的清洁装置,其特征在于,所述第二容器还设有第二排液系统,所述第二排液系统包含第二排液管路,所述第二排液管路用以连接机台的液体回收装置;
所述第二排液管路将第二液体从第二容器排空后,所述气体阀开启吹出氮气。
10.如权利要求1至9其中之一所述显影机喷嘴的清洁装置,其特征在于,所述第一容器设置在所述显影机内,位于显影工作平台内,所述显影机喷嘴由机台运动控制装置带动至所述第二容器中。
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