[实用新型]一种磁控溅射设备有效
| 申请号： | 202020650445.5 | 申请日： | 2020-04-26 |
| 公开（公告）号： | CN212316233U | 公开（公告）日： | 2021-01-08 |
| 发明（设计）人： | 温质康 | 申请（专利权）人： | 福建华佳彩有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/54 |
| 代理公司： | 福州市景弘专利代理事务所(普通合伙) 35219 | 代理人： | 徐剑兵;林祥翔 |
| 地址： | 351100 福*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 磁控溅射 设备 | ||
【权利要求书】：
1.一种磁控溅射设备，其特征在于，包括：设置于阴极背板下方的磁控机构；多个所述磁控机构阵列排布，多个所述磁控机构用于调节阴极背板区域磁场大小；
所述磁控机构包括：磁铁、位移装置；
所述位移装置与磁铁相连接，用于带动所述磁铁靠近或者远离所述阴极背板。
2.根据权利要求1所述一种磁控溅射设备，其特征在于，所述位移装置包括：电机、磁铁运动槽；
所述磁铁置于所述磁铁运动槽内，所述磁铁一端与电机的螺杆转动端相连接，且所述电机用于带动所述磁铁沿磁铁运动槽往复运动。
3.根据权利要求1所述一种磁控溅射设备，其特征在于，所述磁铁内部磁场方向垂直于阴极背板。
4.根据权利要求1所述一种磁控溅射设备，其特征在于，还包括PLC、电脑控制端；每块磁铁所连接的电机与所述PLC的输出端口相连，且所述PLC与电脑控制端电连接。
5.根据权利要求2所述一种磁控溅射设备，其特征在于，所述磁铁沿磁铁运动槽运动的最大距离为65mm。
6.根据权利要求1所述一种磁控溅射设备，其特征在于，还包括靶材板，设置阴极背板相对于磁控机构的一侧。
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