[实用新型]三氯氢硅净化系统有效

专利信息
申请号: 202020671519.3 申请日: 2020-04-27
公开(公告)号: CN212425459U 公开(公告)日: 2021-01-29
发明(设计)人: 吴锋;张天雨;韩秀娟 申请(专利权)人: 江苏鑫华半导体材料科技有限公司
主分类号: C01B33/107 分类号: C01B33/107;B01D3/02;B01D3/14;B01D3/42
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人: 肖阳
地址: 221004 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 三氯氢硅 净化系统
【权利要求书】:

1.一种三氯氢硅净化系统,其特征在于,包括:

添加剂预处理装置,所述添加剂预处理装置具有金属单质入口、有机溶剂入口和添加剂出口;

三氯氢硅预处理装置,所述三氯氢硅预处理装置具有三氯氢硅粗品入口、添加剂入口和混合物料出口,所述添加剂入口与所述添加剂出口相连;

精馏装置,所述精馏装置具有物料入口和精制三氯氢硅出口,所述物料入口与所述混合物料出口相连。

2.根据权利要求1所述的三氯氢硅净化系统,其特征在于,所述精馏装置包括:

第一精馏塔,所述第一精馏塔具有混合物料入口、第一塔顶馏分出口和第一塔釜馏分出口,所述混合物料入口与所述混合物料出口相连;

第二精馏塔,所述第二精馏塔具有第一塔顶馏分入口、第二塔顶馏分出口和第二塔釜馏分出口,所述第一塔顶馏分入口与所述第一塔顶馏分出口相连;

第三精馏塔,所述第三精馏塔具有第二塔釜馏分入口、第三塔顶馏分出口和第三塔釜馏分出口,所述第二塔釜馏分入口与所述第二塔釜馏分出口相连。

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