[实用新型]一种原子层沉积装置及原子层沉积设备

权利要求书

1.一种原子层沉积装置，其特征在于，所述原子层沉积装置包括：

工作台，所述工作台的两侧设置有放卷组件和收卷组件；

沉积组件，所述沉积组件设置于所述工作台上，且位于所述放卷组件和所述收卷组件之间；

传输组件，所述传输组件包括底板和若干传动辊，所述底板上设置有若干主固定孔和若干调节槽，若干所述主固定孔位于所述底板的边缘上，所述调节槽的尺寸大于所述主固定孔的孔径，所述底板通过若干所述调节槽固定于所述工作台上，且所述底板位于所述放卷组件和所述沉积组件之间，若干所述传动辊通过多个主固定孔设置于所述底板上；

其中，物料从所述放卷组件输出，依次经过若干所述传动辊、所述沉积组件，并被所述收卷组件接收，所述沉积组件用于对所述物料进行原子层沉积作业。

2.如权利要求1所述的原子层沉积装置，其特征在于，所述底板上还设置有：

旋转孔，所述旋转孔位于所述底板的中部，若干所述调节槽关于所述旋转孔的圆心环周设置。

3.如权利要求2所述的原子层沉积装置，其特征在于，所述调节槽呈弧形结构，所述调节槽朝向所述旋转孔的圆心方向弯曲形成。

4.如权利要求2所述的原子层沉积装置，其特征在于，所述调节槽绕所述旋转孔的圆心方向的旋转角度为1°至3°。

5.如权利要求2所述的原子层沉积装置，其特征在于，所述调节槽与所述旋转孔的圆心之间的距离为500mm-1000mm。

6.如权利要求2所述的原子层沉积装置，其特征在于，所述底板的长度大于1000mm。

7.如权利要求1所述的原子层沉积装置，其特征在于，所述底板上还设置有：

若干辅助孔，若干所述辅助孔位于所述底板的中部，若干所述传动辊通过若干所述辅助孔固定于所述底板上。

8.一种原子层沉积设备，其特征在于，包括如权利要求1-7中任一项所述的原子层沉积装置，所述原子层沉积设备还包括：

机壳，所述工作台、所述放卷组件、所述收卷组件、所述沉积组件和所述传输组件均位于所述机壳内。