[实用新型]薄膜材料沉积反应装置和薄膜材料沉积反应系统

权利要求书

1.一种薄膜材料沉积反应装置，应用于薄膜材料沉积反应系统，其特征在于，所述薄膜材料沉积反应装置包括：

气体分布台，设有扩散槽，所述扩散槽的底壁设有供气孔，所述扩散槽的内壁设有限位凸台，所述气体分布台用于对膜材表面进行原子层沉积；

扩散板，抵接限位于所述限位凸台，并与所述扩散槽的底壁围合形成扩散腔，所述扩散板开设有间隔设置的多个扩散孔，所述供气孔和多个所述扩散孔与所述扩散腔连通。

2.如权利要求1所述的薄膜材料沉积反应装置，其特征在于，所述限位凸台开设有第一安装孔，所述扩散板对应所述第一安装孔开设有第二安装孔；

所述薄膜材料沉积反应装置还包括锁紧件，所述锁紧件穿过所述第二安装孔，并插入所述第一安装孔内，所述锁紧件用于将所述扩散板固定于所述限位凸台。

3.如权利要求1所述的薄膜材料沉积反应装置，其特征在于，所述限位凸台设有至少两个限位柱，所述扩散板开设有至少两个限位孔，每一所述限位柱穿过每一所述限位孔，以使所述扩散板限位于所述限位凸台。

4.如权利要求3所述的薄膜材料沉积反应装置，其特征在于，所述限位柱远离所述限位凸台的一端设有外螺纹；

所述薄膜材料沉积反应装置还包括可转动地套设于所述限位柱的锁环，所述锁环的内壁设有与所述外螺纹对应的内螺纹，所述扩散板限位于所述锁环和所述限位凸台之间。

5.如权利要求1至4中任一项所述的薄膜材料沉积反应装置，其特征在于，所述薄膜材料沉积反应装置包括多个所述扩散板，每一所述扩散板开设有间隔设置的多个扩散孔；

多个所述扩散板从所述扩散槽的底壁至所述扩散槽的槽口依次间隔设置；

所述限位凸台背向所述扩散槽侧壁的一侧形成有多个台阶，每一所述扩散板抵接限位于每一所述台阶。

6.如权利要求1至4中任一项所述的薄膜材料沉积反应装置，其特征在于，多个所述扩散孔呈扇形发散分布；

且/或，多个所述扩散孔呈螺旋环状分布；

且/或，多个所述扩散孔呈矩阵设置。

7.如权利要求1至4中任一项所述的薄膜材料沉积反应装置，其特征在于，所述扩散孔为圆形孔，所述扩散孔的孔径小于等于10毫米；

且/或，任一所述扩散孔的形状为圆形、方形、腰形以及长条形中的一种。

8.如权利要求1至4中任一项所述的薄膜材料沉积反应装置，其特征在于，所述扩散孔的横截面积从靠近所述扩散槽底壁的一端至远离所述扩散槽底壁的一端逐渐减小。

9.如权利要求1至4中任一项所述的薄膜材料沉积反应装置，其特征在于，所述扩散槽呈锥形设置。

10.一种薄膜材料沉积反应系统，其特征在于，所述薄膜材料沉积反应系统包括：

如权利要求1至9中任一项所述的薄膜材料沉积反应装置；

供气装置，与所述供气孔连接，所述供气装置用于向所述扩散腔内供气。