[实用新型]薄膜叠层结构有效
申请号: | 202020674528.8 | 申请日: | 2020-04-28 |
公开(公告)号: | CN212256951U | 公开(公告)日: | 2020-12-29 |
发明(设计)人: | 张玉春;仲树栋;李卯 | 申请(专利权)人: | 北京载诚科技有限公司 |
主分类号: | H01B5/14 | 分类号: | H01B5/14 |
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地址: | 100094 北京市海淀*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 薄膜 结构 | ||
本实用新型公开了一种薄膜叠层结构,包括基材层、光学调整层、低阻导电层,所述光学调整层包含第一光学调整层和第二光学调整层,所述第一光学调整层设置在基材层的一侧,所述第二光学调整层设置在第一光学调整层远离基材层的一侧;所述低阻导电层设置于光学调整层远离基材层的一侧,所述光学调整层和低阻导电层的反射差率小于1。两层光学调整层在折射率相互匹配后,对低阻导电层和显示装置中的其他层产生的色差具有良好的调整匹配作用。
技术领域
本实用新型涉及薄膜叠层结构,尤其涉及一种含有色差调整层的薄膜叠层结构。
背景技术
近年来,显示领域的电子装置广泛通过液态光学胶(OCA)将电极层和玻璃盖板粘合形成。电极层为在以透明基材为主体而构成的膜上层叠由透明导电材料构成导电薄膜;导电薄膜再通过黄光蚀刻或镭射等方法形成电极层,由于透明导电材料相比于玻璃或其他层如光学胶(OCA),透明导电层具有不同的折射率,因此电极层有透明导电材料的部分与不存在透明电极层的部分由于折射率存在差异,各层的干涉不一,当折射率的差异大,容易形成蚀刻线或镭射线可见的问题,影响显示界面的可视性。
现有技术中,通常采用电极层和玻璃之间设置光学调整层(IM)来解决蚀刻线或镭射线可见的问题,但是透明导电材料朝着低阻化的方向发展,通常选择与常规相比更厚的ITO或不同于ITO的透明低阻导电材料,因此在常规的光学调整层中,难以充分地抑制低阻电极层和其他层之前形成的色差。
实用新型内容
为解决上述蚀刻线可见的问题,本实用新型提出了一种薄膜叠层结构,包括基材层、光学调整层,低阻导电层,所述光学调整层包含第一光学调整层和第二光学调整层,所述第一光学调整层设置在基材层的一侧,所述第二光学调整层设置在第一光学调整层远离基材层的一侧;所述低阻导电层设置于光学调整层远离基材层的一侧;所述光学调整层和低阻导电层的反射差率小于1。
基材层和导电层之间设置光学调整层,目的调整后续该薄膜叠层结构用OCA贴附于玻璃盖板后产生的蚀刻线可见等色差问题,本实用新型设置两层光学调整层尤其适用于采用低阻导电材料作为导电层的情形,通常一层光学调整层只对大于100Ω/□的导电层产生较好的折射率匹配效果,对于特殊的低阻导电材料,阻值越小,反射率越低,要求的光学调整层的反射率应当是越低,但是目前单层光学调整层对于低阻导电材料反而会产生多余的折射效果,因此本实用新型的两层光学调整层在折射率相互匹配后,使得低阻导电层和光学调整层的反射率差变小,从而对低阻导电层和显示装置中的其他层产生的色差具有良好的调整匹配作用。
优选的,本实用新型所述的低阻导电层是指电阻小于30Ω/□的导电层。在实践中,当导电层的方阻小于30Ω时,导电层的反射率R,光学调整层的反射率为RIM层,反射差△R=|R–RIM层|,△R1为最佳,具有较佳的光学调整效果。优选的,0.2△R0.7。
优选的,所述基材层是指柔性透明衬底,材料选自聚对苯二甲酸乙二酯(PET)、聚酰亚胺(PI)、聚丙烯(PP)、聚苯乙烯(PS)、三醋酸纤维素(TAC)、FMH丙烯腈-丁二烯-苯乙烯(ABS)、聚氯乙烯(PVC)、聚碳酸酯(PC)、聚乙烯(PE)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚四氟乙烯、环烯烃共聚物(COP、Arton)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)一种或多种。基材层的目的是起到承载导电层的作用。
优选的,所述第一光学调整层包含高折射率树脂和金属粒子。所述高折射率树脂是指折射率在1.6-1.7范围的树脂,优选地,金属粒子均匀分布在高折射树脂中,选择高折射树脂掺杂金属粒子,使得该第一光学调整层既具备高折射率,又能有良好的光透过性,金属粒子能使光线到第一光学调整层经过漫反射,反射光更加均匀;优选的,该高折射率树脂包含多个苯环和环氧结构。金属粒子选自硅(Si)、锆(Zr)、钛(Ti)、铁(Fe)、钴(Co)中的一种或两种以上。
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