[实用新型]收放料纠偏装置及原子层沉积设备有效
申请号: | 202020682231.6 | 申请日: | 2020-04-27 |
公开(公告)号: | CN212355905U | 公开(公告)日: | 2021-01-15 |
发明(设计)人: | 李哲峰;乌磊 | 申请(专利权)人: | 深圳市原速光电科技有限公司 |
主分类号: | B65H23/032 | 分类号: | B65H23/032 |
代理公司: | 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287 | 代理人: | 郭春芳 |
地址: | 518000 广东省深圳市宝安区*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 收放料 纠偏 装置 原子 沉积 设备 | ||
本实用新型公开了一种收放料纠偏装置及原子层沉积设备,所述收放料纠偏装置包括:放卷组件和收卷组件,物料从放卷组件输出并被收卷组件接收;第一检测组件设置于所述放卷组件的放料路径上,所述第一检测组件用于检测输出的物料是否偏位;第一纠偏组件连接至所述放卷组件,所述第一纠偏组件用于根据所述第一检测组件的检测结果调整所述放卷组件的位置;第二检测组件设置于所述收卷组件的收料路径上,所述第二检测组件用于检测收卷组件接收的物料是否偏位;第二纠偏组件连接至所述收卷组件,所述第二纠偏组件用于根据所述第二检测组件的检测结果调整所述收卷组件的位置,通过上述结构,实现基材从放卷组件到收卷组件的位置纠偏。
技术领域
本实用新型涉及原子层沉积技术领域,特别涉及到一种收放料纠偏装置及原子层沉积设备。
背景技术
现有技术中,原子层沉积工艺是在基材的传送过程中,在基材表面不断沉积单层原子层;基材从放卷装置传送到收卷装置的过程中,可能出现位置偏置,而现有技术中并不存在相应的纠偏方案,基材在传送过程中无法进行纠偏。
实用新型内容
本实用新型的主要目的是提出一种收放料纠偏装置,旨在解决现有技术中基材从放卷装置传送到收卷装置的过程中,无法进行纠偏的技术问题。
为实现上述目的,本实用新型提出的一种收放料纠偏装置,所述收放料纠偏装置包括:底板,所述底板上设置有与所述底板滑动连接的放卷组件和收卷组件,物料从所述放卷组件输出并被所述收卷组件接收;第一检测组件,所述第一检测组件设置于所述放卷组件的放料路径上,所述第一检测组件用于检测输出的物料是否偏位;第一纠偏组件,所述第一纠偏组件连接至所述放卷组件,所述第一纠偏组件用于根据所述第一检测组件的检测结果调整所述放卷组件的位置;第二检测组件,所述第二检测组件设置于所述收卷组件的收料路径上,所述第二检测组件用于检测收卷组件接收的物料是否偏位;第二纠偏组件,所述第二纠偏组件连接至所述收卷组件,所述第二纠偏组件用于根据所述第二检测组件的检测结果调整所述收卷组件的位置。
进一步地,所述第一检测组件固定于所述底板上;所述第二检测组件设置于所述收卷组件上,在所述第二纠偏组件驱动下,所述第二检测组件跟随所述收卷组件一齐运动。
进一步地,所述放卷组件包括:放料支架,所述放料支架上设置有可转动的放料滚筒,物料转绕于所述放料滚筒上,所述放料支架底部设置有放料滑槽;放料滑轨,所述放料滑轨设置于所述底板上,所述放料滑轨与所述放料滑槽滑动配合,所述放料滑轨的滑动方向与所述物料的放料方向垂直。
进一步地,所述第一检测组件包括:第一检测支架,所述第一检测支架设置于所述底板上;第一红外传感器,所述第一红外传感器设置于所述第一检测支架上,所述第一红外传感器包括第一发射器和第二接收器,所述第一发射器和第二接收器之间形成第一光路,通过检测所述第一光路的通断判断物料的偏位方向。
进一步地,所第一纠偏组件包括:第一纠偏驱动件,所述第一纠偏驱动件设置于所述底板上;第一纠偏杆,所述第一纠偏杆连接所述第一纠偏驱动件和所述放料支架,在所述第一纠偏驱动件的驱动作用下,所述第一纠偏杆带动所述放料支架在所述放料滑轨上来回运动以进行纠偏。
进一步地,所述收卷组件包括:收料支架,所述收料支架上设置有可转动的收料滚筒,接收的物料转绕于所述收料滚筒上,所述收料支架底部设置有收料滑槽;收料滑轨,所述收料滑轨设置于所述底板上,所述收料滑轨与所述收料滑槽滑动配合,所述收料滑轨的滑动方向与所述物料的收料方向垂直。
进一步地,所述第二检测组件包括:第二检测支架,所述第二检测支架设置于所述收料支架上;第二红外传感器,所述第二红外传感器设置于所述第二检测支架上,所述第二红外传感器包括第二发射器和第二接收器,所述第二发射器和第二接收器之间形成第二光路,通过检测所述第二光路的通断判断物料的偏位方向。
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