[实用新型]一种柔性导电卷材的加工系统

说明书

本实用新型公开了一种柔性导电卷材的加工系统，涉及基材镀膜领域；该加工系统包括第一真空镀膜装置，用于在薄膜基材表面形成磁控溅射镀膜；第二真空镀膜装置，位于第一真空镀膜装置后方，用于在磁控溅射镀膜上形成第一金属镀层；第一碱性水镀装置，位于第二真空镀膜装置后方，在第一金属镀层上形成过渡金属镀层；第二碱性水镀装置，位于第三真空镀膜装置后方，在第一金属镀层上形成增厚金属镀层；本实用新型的有益效果是：能够避免蒸镀工艺的高温因素对膜面串泡和孔洞的影响，可以有效的解决串泡问题，同时解决原蒸镀工艺的高温金属微粒将基膜击穿的孔洞问题。

技术领域

本实用新型涉及柔性卷材加工领域，更具体的说，本实用新型涉及一种柔性导电薄膜卷材的加工系统。

背景技术

真空镀膜主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发、磁控溅射、MBE分子束外延、PLD激光溅射沉积等很多种。主要分成蒸发和溅射两种。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。

中国专利文献CN108531876A公开了一种镀膜工艺流程，具体公开了以下内容：其是超薄基材上镀金属膜，以获得具有可提高粘合力的镀膜产品，其工艺流程如下，在超薄基材表面先采用磁控镀膜5-50nm，再水镀镀膜600-1000nm；或者工艺流程如下，在超薄基材表面先采用磁控镀膜5-50nm,然后蒸发镀膜100-700nm，最后水镀镀膜100-800nm。在具体的锂电池集流体的应用中，基材、镀层的性质(金属镀层)和镀层的厚度范围是一个较好的选择组合，在此基础上，磁控镀膜与水镀镀膜之间膜层的结合力得到了较好的性能体现。

采用蒸发镀膜结合水镀镀膜的工艺路线，在生产柔性导电薄膜卷材时具有以下两个突出的技术问题：一、串泡问题：柔性导电薄膜卷材产品采用的基膜为拉伸制程工艺，在制程过程中容易发生局部变形，在进行蒸发镀膜工艺时，由于蒸发镀膜工艺的温度较高，会使得基膜的形变恶化，产生在走膜方向一连串的变形，称为串泡。在采用该柔性导电薄膜卷材产品进行后产业链加工使用过程中会出现两个问题：①走膜过程中由于膜面有串泡，在串泡区域容易产生褶皱，影响产品优率。②在用户后加工工艺制程中，由于膜面上串泡区域使得后工序的走带与各种表面处理的均匀性不能保证，从而影响产品一致性。针对该问题，目前的制程工艺路线不能满足产品一致性和优率的要求，从实际估算来看，串泡会对产品形成约30％的优率损失。二、孔洞问题：柔性导电薄膜卷材产品基膜在经过蒸发镀膜工艺时，由于蒸发镀膜工艺温度较高且有微小波动，在走膜过程中不均匀蒸发导致的高温金属微粒容易将基膜击穿，形成孔洞，该孔洞的大小最大能达到毫米级别。而通常对于柔性导电薄膜产品合格率要求为孔洞不得大于500um。该缺陷在后产业链加工使用中会造成表处理过程中漏料现象，从而有一定几率会对终端产品造成极大的安全风险。

实用新型内容

为了克服现有技术的不足，本实用新型提供一种柔性导电卷材的加工系统，解决了现有技术中柔性导电卷材生产时的串泡问题和孔洞问题。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：一种柔性导电卷材的加工系统，其改进之处在于，包括：

第一真空镀膜装置，用于在薄膜基材表面形成磁控溅射镀膜；

第二真空镀膜装置，位于第一真空镀膜装置后方，用于在磁控溅射镀膜上形成第一金属镀层；

第一碱性水镀装置，位于第二真空镀膜装置后方，在第一金属镀层上形成过渡金属镀层；

第三真空镀膜装置，位于第一碱性水镀装置后方，在过渡金属镀层上形成第二金属镀层；

第二碱性水镀装置，位于第三真空镀膜装置后方，通过多次反复进行水镀从而在第二金属镀层上形成增厚金属镀层。