[实用新型]一种新型圆底杯加工用可调式上釉设备

权利要求书

1.一种新型圆底杯加工用可调式上釉设备，包括设备架体（1）、设备台体（2）、圆底杯放置架（8）、支撑结构（9）和釉浆存储箱（13），其特征在于：所述设备架体（1）的内侧设置有设备台体（2），且设备台体（2）底端的拐角位置处皆固定有支撑腿（6），所述设备台体（2）的顶端设置有釉浆存储箱（13），且釉浆存储箱（13）的内部皆固定有上釉管（15），所述釉浆存储箱（13）一侧的设备台体（2）顶端固定有循环泵（7），且循环泵（7）的输入端通过管道与釉浆存储箱（13）相连通，并且输出端通过管道延伸至釉浆存储箱（13）的内部，所述釉浆存储箱（13）的上方设置有圆底杯放置架（8），且圆底杯放置架（8）顶端的两侧皆设置有支撑结构（9），所述圆底杯放置架（8）顶端的中心位置处固定有立柱（11），且立柱（11）上方的设备架体（1）顶部固定有气缸（10），气缸（10）的输出端与立柱（11）的顶端固定连接，所述设备架体（1）一侧的外壁上固定有控制面板（12），且控制面板（12）内部单片机的输出端分别与循环泵（7）和气缸（10）的输入端电性连接。

2.根据权利要求1所述的一种新型圆底杯加工用可调式上釉设备，其特征在于：所述设备台体（2）的底端固定有输送主管（4），且输送主管（4）顶端的两侧皆固定有输送支管（5），输送支管（5）的顶端贯穿设备台体（2）并与上釉管（15）相连通。

3.根据权利要求2所述的一种新型圆底杯加工用可调式上釉设备，其特征在于：所述输送主管（4）的下方设置有增压泵（3），且增压泵（3）的输入端通过管道与釉浆存储箱（13）相连通，并且增压泵（3）的输出端通过管道与输送主管（4）相连通。

4.根据权利要求1所述的一种新型圆底杯加工用可调式上釉设备，其特征在于：所述支撑结构（9）的内部依次设置有支撑管（901）、釉浆流通通道（902）、支撑顶圈（903）、支撑触杆（904）、卡接凹槽（905）和卡接凸块（906），所述圆底杯放置架（8）顶端的两侧皆固定有支撑管（901）。

5.根据权利要求4所述的一种新型圆底杯加工用可调式上釉设备，其特征在于：所述支撑管（901）的内部设置有釉浆流通通道（902），釉浆流通通道（902）与上釉管（15）相互配合，且支撑管（901）的顶端固定有支撑顶圈（903），并且支撑顶圈（903）的顶端皆固定有等间距的支撑触杆（904）。

6.根据权利要求5所述的一种新型圆底杯加工用可调式上釉设备，其特征在于：所述支撑管（901）的顶部皆设置有等间距的卡接凹槽（905），且卡接凹槽（905）的内部设置有卡接凸块（906），卡接凸块（906）的顶端与支撑顶圈（903）的底端固定连接。

7.根据权利要求1所述的一种新型圆底杯加工用可调式上釉设备，其特征在于：所述釉浆存储箱（13）一侧的内壁上固定有壁管（14），壁管（14）与循环泵（7）的输出端相连通，且壁管（14）一侧的外壁上皆固定有等间距的第一导液管（16），并且第一导液管（16）一侧的壁管（14）外壁上皆固定有等间距的第二导液管（17），第二导液管（17）和第一导液管（16）皆与壁管（14）相连通。