[实用新型]一种防止打火的等离子刻蚀装置的下电极结构有效
申请号: | 202020751930.1 | 申请日: | 2020-05-09 |
公开(公告)号: | CN211957593U | 公开(公告)日: | 2020-11-17 |
发明(设计)人: | 王铖熠;刘小波;郭颂;侯永刚;李娜;张军;胡冬冬;许开东 | 申请(专利权)人: | 北京鲁汶半导体科技有限公司 |
主分类号: | H01J37/04 | 分类号: | H01J37/04 |
代理公司: | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人: | 肖鹏 |
地址: | 100176 北京市大兴区北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 防止 打火 等离子 刻蚀 装置 电极 结构 | ||
1.一种防止打火的等离子刻蚀装置的下电极结构,包括下电极(1)和外部进气通道(2);所述下电极(1)的上表面设置有冷却气槽(102a);冷却气体经外部进气通道(2)进入冷却气槽(102a);其特征在于:所述外部进气通道(2)内靠近下电极(1)的一端沿气流方向嵌入设置有多个首尾相连的毛细管(3);每个所述毛细管(3)的两端均设置有台阶沉槽(301);
每个所述毛细管(3)包括多个沿气流方向的流通支管(302);所述流通支管(302)的两端开设在台阶沉槽(301)的槽底;相邻的两个毛细管(3)的流通支管(302)交错布置。
2.根据权利要求1所述的防止打火的等离子刻蚀装置的下电极结构,其特征在于:相邻的两个毛细管(3)的流通支管(302)沿径向交错布置。
3.根据权利要求2所述的防止打火的等离子刻蚀装置的下电极结构,其特征在于:所述下电极(1)包括底板(101)和固定在底板(101)上的顶板(102);所述冷却气槽(102a)设置在顶板(102)上表面;所述顶板(102)的下表面加工有冷却气通道(102b);所述底板(101)上设置有冷却气进口(101a);
外部进气通道(2)的冷却气体依次流经冷却气进口(101a)、冷却气通道(102b)和冷却气槽(102a)。
4.根据权利要求3所述的防止打火的等离子刻蚀装置的下电极结构,其特征在于:所述冷却气槽(102a)为环状。
5.根据权利要求4所述的防止打火的等离子刻蚀装置的下电极结构,其特征在于:所述下电极(1)的外部设置有绝缘壳;所述绝缘壳包括固定在下电极(1)下方的陶瓷座(103)、围绕在下电极(1)侧壁外周的绝缘环(104)和固定在下电极(1)上方的陶瓷压环(105)。
6.根据权利要求5所述的防止打火的等离子刻蚀装置的下电极结构,其特征在于:还包括底座(106)、屏蔽环(107)和限制环(108);所述底座(106)固定在反应腔体底部;所述屏蔽环(107)和限制环(108)依次设置在底座(106)上方;所述下电极(1)及其绝缘壳置于底座(106)上方,且位于屏蔽环(107)和限制环(108)内。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京鲁汶半导体科技有限公司,未经北京鲁汶半导体科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202020751930.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种防火型交流低压配电柜
- 下一篇:一种桥梁建筑工程检测装置