[实用新型]一种双层研磨盘有效
申请号: | 202020784979.7 | 申请日: | 2020-05-12 |
公开(公告)号: | CN212943236U | 公开(公告)日: | 2021-04-13 |
发明(设计)人: | 石正兰;宋克甫;邓世军;余伟 | 申请(专利权)人: | 广东琅菱智能装备有限公司 |
主分类号: | B02C17/16 | 分类号: | B02C17/16 |
代理公司: | 东莞市华南专利商标事务所有限公司 44215 | 代理人: | 黄焯辉 |
地址: | 523000 广东省东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 双层 研磨 | ||
1.一种双层研磨盘,其特征在于:包括两个盘体和多个连接筋,两个盘体彼此正对设置,两个盘体之间留有隔空层,多个连接筋均设置于两个盘体之间;盘体设置有多个贯穿盘体的循环孔;两个盘体的侧壁均为光滑的弧面。
2.根据权利要求1所述的双层研磨盘,其特征在于:盘体的形状为圆饼状。
3.根据权利要求1所述的双层研磨盘,其特征在于:还包括轴套和用于装配转轴的安装孔,所述轴套的两端分别连接于两个盘体,所述安装孔贯穿于两个盘体和所述轴套。
4.根据权利要求3所述的双层研磨盘,其特征在于:所述轴套还设置有定位槽,所述定位槽连通所述安装孔的一侧。
5.根据权利要求3所述的双层研磨盘,其特征在于:连接筋的数量不少于三个,不少于三个的连接筋以所述轴套为圆心均匀分布于所述轴套的外侧。
6.根据权利要求5所述的双层研磨盘,其特征在于:每相邻的两条连接筋之间设置有循环区,多个循环孔均匀平均分布于各循环孔内。
7.根据权利要求1所述的双层研磨盘,其特征在于:两个盘体和多个连接件一体成型。
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