[实用新型]化学气相沉积系统及其局域供气装置有效
申请号: | 202020788756.8 | 申请日: | 2020-05-13 |
公开(公告)号: | CN212247201U | 公开(公告)日: | 2020-12-29 |
发明(设计)人: | 刘忠范;李杨立志;刘海洋;孙禄钊;王悦晨;陈步航;梁宇 | 申请(专利权)人: | 北京石墨烯研究院;北京大学 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人: | 孙宝海;阚梓瑄 |
地址: | 100095 北京市海淀区苏家*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 化学 沉积 系统 及其 局域 供气 装置 | ||
1.一种局域供气装置,设置于化学气相沉积系统的腔室上,其特征在于,所述局域供气装置包含:
转向管,穿设于所述腔室并具有转向结构、内管口和外管口,所述内管口和所述外管口分别位于所述腔室的内部和外部;
腔内连接组件,设置于所述内管口;
供气终端管路,设置于所述腔室的内部并通过所述腔内连接组件连接于所述内管口;
腔外连接组件,设置于所述外管口;以及
腔外气体管路,设置于所述腔室的外部并通过所述腔外连接组件连接于所述外管口。
2.根据权利要求1所述的局域供气装置,其特征在于,所述转向管的所述转向结构的转向角度为90°。
3.根据权利要求1所述的局域供气装置,其特征在于,所述腔内连接组件包含:
腔内转换口,开设有通孔,所述通孔一端连通于所述内管口,另一端供所述供气终端管路穿设;以及
腔内密封螺母,与所述内管口外壁的外螺纹配合,并被配置为将所述腔内转换口固定于所述内管口。
4.根据权利要求3所述的局域供气装置,其特征在于,所述腔内连接组件还包含:
第一密封胶圈,垫设于所述腔内转换口与所述内管口之间。
5.根据权利要求1所述的局域供气装置,其特征在于,所述腔外连接组件包含:
适配套筒,套设于所述外管口;
腔外转换口,开设有通孔,所述通孔一端连通于所述适配套筒,另一端供所述腔外气体管路穿设;以及
腔外密封螺母,与所述适配套筒外壁的外螺纹配合,并被配置为将所述腔外转换口固定于所述适配套筒;
其中,所述腔室外部设置有法兰,所述适配套筒穿设于所述法兰的法兰接口。
6.根据权利要求5所述的局域供气装置,其特征在于,所述腔外连接组件还包含:
第二密封胶圈,垫设于所述腔外转换口与所述适配套筒之间;和/或
第三密封胶圈,绕设于所述适配套筒的外周,并在所述适配套筒与所述法兰接口之间形成密封。
7.根据权利要求1所述的局域供气装置,其特征在于,所述腔外连接组件包含:
腔外转换口,开设有通孔,所述通孔一端连通于所述外管口,另一端供所述腔外气体管路穿设;
腔外密封螺母,与所述外管口外壁的外螺纹配合,并被配置为将所述腔外转换口固定于所述外管口;以及
第四密封胶圈,垫设于所述腔外转换口与所述外管口之间。
8.根据权利要求7所述的局域供气装置,其特征在于,所述腔室外部设置有法兰,所述转向管的邻接其外管口的部分穿设于所述法兰的法兰接口;其中,所述转向管的邻接其外管口的部分的外周环绕设有第五密封胶圈,所述第五密封胶圈在所述转向管与所述法兰接口之间形成密封。
9.根据权利要求1所述的局域供气装置,其特征在于,所述供气终端管路的远离所述转向管的出气端部具有一个出气管口,所述出气管口开设于所述出气端部的端头位置;或者,所述供气终端管路的远离所述转向管的出气端部具有两个出气管口,所述两个出气管口分别开设于所述出气端部的端头位置和周向位置;或者,所述供气终端管路的远离所述转向管的出气端部具有花洒状结构,所述供气终端管路具有多个出气管口,所述多个出气管口开设于所述花洒状结构上。
10.一种化学气相沉积系统,其特征在于,所述化学气相沉积系统包含权利要求1~9任一项所述的局域供气装置,所述局域供气装置设置于所述化学气相沉积系统的腔室上。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京石墨烯研究院;北京大学,未经北京石墨烯研究院;北京大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202020788756.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种用于酒熨熏浴的衣裤套装
- 下一篇:一种节能式催化燃烧装置
- 同类专利
- 专利分类
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的