[实用新型]一种地下空间用气体环境监测装置有效
申请号: | 202020795871.8 | 申请日: | 2020-05-14 |
公开(公告)号: | CN212082453U | 公开(公告)日: | 2020-12-04 |
发明(设计)人: | 葛竞天 | 申请(专利权)人: | 上海虬祺传感器科技有限公司 |
主分类号: | G01D21/02 | 分类号: | G01D21/02;G01N27/407;G05B19/042 |
代理公司: | 上海助之鑫知识产权代理有限公司 31328 | 代理人: | 吴红艳 |
地址: | 201500 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 地下 空间 气体 环境监测 装置 | ||
本实用新型公开了一种地下空间用气体环境监测装置,包括壳体,所述壳体内置电路板,所述电路板上集成有电化学气体传感器、温湿度传感器、微控制单元MCU、电源和通讯接口,所述微控制单元MCU分别与电化学气体传感器、温湿度传感器连接,所述微控制单元MCU还通过电源与通讯接口和外部设备连接。本实用新型微控制单元MCU从电化学气体传感器中获得对应气体浓度信号,从温湿度传感器中获得温湿度信号,微控制单元MCU并经过其内置算法对获得的信号进行转换处理后,形成对应数据值,外部设备从电源与通讯接口对电路板供电并读取数据。
技术领域
本实用新型涉及气体环境监测技术领域,尤其涉及一种地下空间用气体环境监测装置。
背景技术
一般地下空间,如地下管沟,工井等内部,容易聚集有毒气体或形成低氧环境,导致人员中毒或者窒息,因此需要气体环境监测装置,以保障人员安全。
实用新型内容
针对上述现有技术的缺点,本实用新型的目的是提供一种地下空间用气体环境监测装置。
为了解决上述技术问题,本实用新型采用如下的技术方案:
一种地下空间用气体环境监测装置,包括壳体,所述壳体内置电路板,所述电路板上集成有电化学气体传感器、温湿度传感器、微控制单元MCU、电源与通讯接口,所述微控制单元MCU分别与电化学气体传感器、温湿度传感器连接,所述微控制单元MCU还通过电源与通讯接口和外部设备连接。
进一步地,上述地下空间用气体环境监测装置中,所述电化学气体传感器包括氧气传感器、一氧化碳传感器和硫化氢传感器。
进一步地,上述地下空间用气体环境监测装置中,所述微控制单元MCU分别与氧气传感器、一氧化碳传感器和硫化氢传感器连接。
进一步地,上述地下空间用气体环境监测装置中,所述氧气传感器、一氧化碳传感器和硫化氢传感器的体积均为12.5mm X12.5 mm X5.5mm。
进一步地,上述地下空间用气体环境监测装置中,所述壳体由不锈钢外壳和不锈钢烧结滤片组成。
进一步地,上述地下空间用气体环境监测装置中,所述壳体在靠近电路板的一侧通过环氧树脂灌封胶密封。
与现有技术相比,本实用新型地下空间用气体环境监测装置,包括壳体,所述壳体内置电路板,所述电路板上集成有电化学气体传感器、温湿度传感器、微控制单元MCU、电源和通讯接口,所述微控制单元MCU分别与电化学气体传感器、温湿度传感器连接,所述微控制单元MCU还通过电源与通讯接口和外部设备连接。本实用新型微控制单元MCU从电化学气体传感器中获得对应气体浓度信号,从温湿度传感器中获得温湿度信号,微控制单元MCU并经过其内置算法对获得的信号进行转换处理后,形成对应数据值,外部设备从电源与通讯接口对电路板供电并读取数据。
以下将结合附图对本实用新型的构思、具体结构及产生的技术效果作进一步说明,以充分地了解本实用新型的目的、特征和效果。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简要介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域的普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1:本实用新型实施例提供的地下空间用气体环境监测装置组成结构示意图。
具体实施方式
为了使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合附图对本实用新型作进一步地详细描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部份实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例,都属于本实用新型保护的范围。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海虬祺传感器科技有限公司,未经上海虬祺传感器科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202020795871.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种高端激光熔覆设备
- 下一篇:一种改进型单膜片离合器