[实用新型]光学元件和光学镜头有效

专利信息
申请号: 202020814338.1 申请日: 2020-05-15
公开(公告)号: CN212031777U 公开(公告)日: 2020-11-27
发明(设计)人: 蒯泽文;阮高梁;诸烨 申请(专利权)人: 浙江舜宇光学有限公司
主分类号: G02B5/00 分类号: G02B5/00;C23C14/24;C23C14/20;C23C14/10;C23C14/08
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 刘娜
地址: 315499 浙江*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 光学 元件 镜头
【权利要求书】:

1.一种光学元件,其特征在于,包括本体(10)和吸光膜(20),所述本体(10)的至少一部分镀有所述吸光膜(20),所述吸光膜(20)包括:

第一膜系,所述第一膜系包括多个膜层,多个所述膜层包括至少一个金属膜层和至少一个低折射率膜层,所述金属膜层与所述低折射率膜层为多个时,所述金属膜层与所述低折射率膜层交替设置;

第二膜系,所述第二膜系包括所述低折射率膜层、高折射率膜层和所述金属膜层中的至少一种膜层,且所述第一膜系与所述第二膜系连接处的膜层的种类不同,所述第一膜系或所述第二膜系与所述本体(10)连接。

2.根据权利要求1所述的光学元件,其特征在于,

所述第一膜系设置在所述第二膜系与所述本体(10)之间;或者

所述第一膜系设置在所述第二膜系内。

3.根据权利要求1所述的光学元件,其特征在于,所述第二膜系包括多个所述高折射率膜层和多个所述低折射率膜层时,所述高折射率膜层与所述低折射率膜层交替叠置,

所述吸光膜(20)对波长在430nm至780nm范围内的光的平均反射率为R%,R%≦1%;和/或

所述吸光膜(20)对波长在430nm至780nm范围内的光的平均吸收率Abs%,Abs%≧97%。

4.根据权利要求1所述的光学元件,其特征在于,所述第二膜系仅具有一个膜层时,

所述吸光膜(20)对波长在430nm至780nm范围内的光的平均反射率为R%,R%≦3%;和/或

所述吸光膜(20)对波长在430nm至780nm范围内的光的平均吸收率Abs%,Abs%≧97%。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的光学元件,其特征在于,所述吸光膜(20)中裸露在表面的膜层是所述金属膜层时,所述金属膜层的厚度t小于等于20纳米。

6.根据权利要求1至4中任一项所述的光学元件,其特征在于,

所述金属膜层的折射率大于等于2且小于等于4;和/或

所述低折射率膜层的折射率大于等于1.4且小于等于2;和/或

所述高折射率膜层的折射率大于等于2且小于等于4。

7.根据权利要求1至4中任一项所述的光学元件,其特征在于,所述金属膜层的消光系数大于等于1.5且小于等于4。

8.根据权利要求1至4中任一项所述的光学元件,其特征在于,

所述金属膜层的材料包括Cr、Ti、Cu、Ag、Al中的至少一种;和/或

所述低折射率膜层的材料包括Al、Ti、Sn、Hf、Ta、Y、Zr、Nb的氧化物、氮化物以及氮氧化物中的至少一种。

9.根据权利要求1至4中任一项所述的光学元件,其特征在于,所述高折射率膜层的材料包括氢化硅、氢化硅锗、SiC、Nb2O5、Ta2O5以及Ti的氧化物中的至少一种。

10.一种光学镜头,其特征在于,所述光学镜头包括权利要求1至9中任一项所述的光学元件。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江舜宇光学有限公司,未经浙江舜宇光学有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202020814338.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top