[实用新型]一种原位底部阻隔结构、半阻隔、阻隔及排液系统有效

专利信息
申请号: 202020822245.3 申请日: 2020-05-15
公开(公告)号: CN212248389U 公开(公告)日: 2020-12-29
发明(设计)人: 谷亮 申请(专利权)人: 谷亮
主分类号: E02D31/00 分类号: E02D31/00
代理公司: 四川力久律师事务所 51221 代理人: 王波
地址: 611130 四川省成都市温江*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 原位 底部 阻隔 结构 系统
【权利要求书】:

1.一种原位底部阻隔结构,其特征在于,包括底部防渗结构(3)和与所述底部防渗结构(3)相连通的施工通道(311),所述底部防渗结构(3)包括沿高度方向设置的至少一层防渗层(31),所述防渗层(31)位于既有待处理物(5)下方,其中,

所述防渗层(31)被配置为:所述防渗层(31)为通过向施工通道(311)内灌注的或高压旋喷的防渗浆液,与周边的土层和/或岩体所固化成型为一体的层状结构体。

2.根据权利要求1所述的一种原位底部阻隔结构,其特征在于,所述底部防渗结构(3)还包括相连通的输送通道(33)和横向通道(32),所述输送通道(33)与外界相连通,所述施工通道(311)与所述横向通道(32)相连通,所述施工通道(311)位于所述既有待处理物(5)下方。

3.根据权利要求1所述的一种原位底部阻隔结构,其特征在于,所述施工通道(311)贯穿所述既有待处理物(5),且所述施工通道(311)的下端位于所述既有待处理物(5)下方。

4.根据权利要求1-3任意一项所述的一种原位底部阻隔结构,其特征在于,沿高度方向设置有至少三层所述防渗层(31)。

5.根据权利要求1-3任意一项所述的一种原位底部阻隔结构,其特征在于,最底部的所述防渗层(31)下方设置有第一监测子系统(34),所述第一监测子系统(34)用于实时监测所述底部防渗结构(3)的渗透情况。

6.一种半阻隔系统,其特征在于,包括立面防渗结构(2)和如权利要求1-5任意一项所述的原位底部阻隔结构,所述立面防渗结构(2)位于所述既有待处理物(5)侧面,所述立面防渗结构(2)用于防止既有待处理物(5)的侧部渗漏,所述立面防渗结构(2)与所述底部防渗结构(3)密封连接。

7.根据权利要求6所述的一种半阻隔系统,其特征在于,所述立面防渗结构(2)的外侧设置有第二监测子系统(21),所述第二监测子系统(21)用于实时监测所述立面防渗结构(2)的渗透情况。

8.根据权利要求6或7所述的一种半阻隔系统,其特征在于,所述立面防渗结构(2)底部连通所述底部防渗结构(3),所述立面防渗结构(2)与所述底部防渗结构(3)对应侧的端部整体灌浆或高压旋喷成型。

9.一种阻隔系统,其特征在于,包括顶部防渗结构(1)和如权利要求6-8任意一项所述的半阻隔系统,所述顶部防渗结构(1)与所述立面防渗结构(2)密封连接。

10.根据权利要求9所述的一种阻隔系统,其特征在于,所述顶部防渗结构(1)和/或所述立面防渗结构(2)上贯穿设置有至少一根通管(10),所述通管(10)用于所述既有待处理物(5)内外气体和/或液体交换。

11.一种排液系统,其特征在于,包括如权利要求1-5任意一项所述的一种原位底部阻隔结构或如权利要求6-8任意一项所述的半阻隔系统或如权利要求9-10任意一项所述的阻隔系统,还包括用于将所述既有待处理物(5)中的液相产物排至外界的排液通道(4)。

12.根据权利要求11所述的一种排液系统,其特征在于,所述排液通道(4)的下游连通有液相产物反应器(41),所述液相产物反应器(41)用于处理所述液相产物中的待处理的物质。

13.根据权利要求12所述的一种排液系统,其特征在于,所述液相产物反应器(41)的下游依次连通有非均相分离器(43)和液相注入设备(44),所述非均相分离器(43)用于将所述液相产物反应器(41)内剩余物质中的液体分离并排入所述液相注入设备(44),所述液相注入设备(44)将所述液体循环注入所述既有待处理物(5)。

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