[实用新型]一种测量装置和测量系统

权利要求书

1.一种测量装置，其特征在于，应用于厚度测量，所述测量装置包括：支撑结构、移动结构和测量结构；

所述测量装置处于组装状态时，所述移动结构设置在所述支撑结构上；所述测量结构设置在所述移动结构上；

所述测量装置处在测量状态时，所述移动结构带动所述测量结构在第一方向和第二方向移动，所述测量结构在第三方向移动。

2.根据权利要求1所述的测量装置，其特征在于，所述支撑结构包括：

基座，所述基座具有测量基准面，待测量工件承载于所述测量基准面上；

至少一个支架，至少一个所述支架设置在所述基座上；

所述至少一个支架包括一个支架时，所述测量基准面位于所述支架一侧；所述至少一个支架包括多个所述支架时，所述测量基准面位于相邻两个所述支架之间；

所述测量装置处于组装状态时，所述移动结构设置在所述支架上。

3.根据权利要求2所述的测量装置，其特征在于，所述基座上开设凹槽，所述凹槽的槽口所在的平面为所述测量基准面；或，

所述基座上具有间隔设置的至少两个支撑座，至少两个所述支撑座远离所述基座的表面与所述基座的表面平行；至少两个所述支撑座远离所述基座的表面为所述测量基准面。

4.根据权利要求1所述的测量装置，其特征在于，所述移动结构包括第一移动结构和第二移动结构；

所述测量装置处在组装状态时，所述第一移动结构设置在所述支撑结构上，所述第二移动结构设置在所述第一移动结构上；

所述测量装置处在测量状态时，所述第一移动结构带动所述测量结构在第二方向移动，所述第二移动结构带动所述测量结构在第一方向移动。

5.根据权利要求4所述的测量装置，其特征在于，所述第一移动结构包括至少一个第一导轨和至少一个第一滑块，至少一个所述第一滑块与至少一个所述第一导轨匹配；

所述测量装置处在组装状态时，至少一个所述第一导轨设置在所述支撑结构上，所述第一滑块设置在所述第一导轨上；所述第一滑块带动所述测量结构在第二方向移动，所述第二移动结构设置在所述第一滑块上。

6.根据权利要求5所述的测量装置，其特征在于，所述第一移动结构还包括限位块，所述限位块设置在所述第一导轨的末端，用于限制所述第一滑块在第二方向移动。

7.根据权利要求4所述的测量装置，其特征在于，所述第二移动结构包括至少一个第二导轨和至少一个第二滑块，至少一个所述第二滑块与至少一个所述第二导轨匹配；

所述测量装置处在组装状态时，至少一个所述第二导轨设置在所述第一移动结构上；所述第二滑块设置在所述第二导轨上；所述第二滑块带动所述测量结构在第一方向移动。

8.根据权利要求1所述的测量装置，其特征在于，所述测量结构包括测量件，显示件和测量基座；

所述测量装置处于组装状态时，所述测量件贯穿所述显示件，所述测量基座分别与所述显示件和移动结构紧固连接。

9.根据权利要求1所述的测量装置，其特征在于，所述第一方向为X方向，所述第二方向为Y方向，所述第三方向为Z方向。

10.一种测量系统，其特征在于，包括权利要求1至9任一项所述的测量装置。