[实用新型]一种真空混料装置

说明书

本实用新型涉及材料制备领域，公开了一种真空混料装置，包括真空容器、容纳于真空容器内的混料容器和沉积容器、用于调整混料容器内温度的混料加热组件及用于调整沉积容器内温度的沉积加热组件。混料容器上开设的第一开口正对且连通沉积容器上开设的第二开口，混料容器能转动运行，以搅拌混料腔内的物料，沉积容器也能够转动运行且真空腔、混料腔、沉积腔的内壁为石英或氮化硅材质，能避免二次污染。本实用新型在真空状态下混合物料保证了混合的纯净度，而且其能够进行常温下固体物料的混合，也能在混料加热组件的加热条件下进行熔融状态的物料的混合，还能利用沉积容器进行气体状态物料的混合及沉积收集，混料方式多样，能够满足不同混匀需求。

技术领域

本实用新型涉及材料制备装置技术领域，尤其涉及一种真空混料装置。

背景技术

OLED材料(有机发光半导体物料)等高纯度物料的生产制造对于制备环境的清洁度有着较高的要求。而OLED电子产品的制造同样也对使用的OLED材料的性能的均一性及纯度有着很高的要求，因此要尽量减少对于OLED材料的污染。

目前，国内市场对于OLED材料的制备已经实现了大规模的批量生产，生产出来的同种或者不同种类型的OLED材料会作为OLED电子产品的原料进行使用。然而，在OLED材料的前期生产过程中，由于升华仪等生产设备不同或者其他原因的影响，通常不同批次的同种的OLED材料之间会存在一定的纯度或性能差异，因为在后续的生产中无法直接将不同批次的同种的OLED材料直接同步投入到后续的蒸镀产线进行使用；还有一些情况下，由于工艺的特殊需要，需要将不同种的OLED材料进行混匀，然后才能投入到后续的蒸镀产线。因此，在将OLED材料投入蒸镀产线之前，需要对OLED材料进行充分混匀处理，来保证投入使用的物料的均匀度达到投入蒸镀产线的要求。但是，现有的混匀设备主要存在以下问题：1、目前的混料设备难以满足OLED材料混合时的混料环境高洁净度的要求，在混匀过程中很容易造成二次污染；2、为了使得混合后的物料的均一性达到使用要求，一些情况下只需要进行固体颗粒级别的混匀，一些情况下需要进行熔融状态下的混匀，还有一些情况下需要进行气体状态下的分子级别的混匀，而现有的混料设备结构单一，功能单一，混料方式单一，使用灵活性差，难以同时满足不同的混匀需求。

因此，亟需提出一种真空混料装置，在满足混合环境洁净度要求的前提下，能够提供多种混料方式，以满足物料的不同混匀需求。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提出一种真空混料装置，在满足混合环境洁净度要求的前提下，能够提供多种混料方式，以满足物料的不同混匀需求。

为达此目的，本实用新型采用以下技术方案：

一种真空混料装置，包括：

真空容器，其内开设有真空腔；

混料容器，容纳于所述真空腔内，所述混料容器上开设有混料腔及与所述混料腔连通的第一开口，所述混料容器能够转动运行，以用于搅拌所述混料腔内的物料；

混料加热组件，设置于所述混料容器外，用于调节所述混料腔内的温度，以将所述混料腔内的呈固态的物料加热成熔融态或者气态；

沉积容器，容纳于所述真空腔内，所述沉积容器上开设有沉积腔及与所述沉积腔连通的第二开口，所述第二开口正对且连通所述第一开口，以使所述混料腔内的呈气态的物料能够进入到所述沉积腔内；

沉积加热组件，设置于所述沉积容器外，用于调节所述沉积腔内的温度，以使进入到所述沉积腔内的呈气态的物料凝固成固态；其中，所述沉积容器能够转动运行，且所述真空腔、所述混料腔、所述沉积腔的内壁材质为石英或氮化硅材质。

可选地，所述混料腔的内壁上设置有搅拌凸起。

可选地，所述搅拌凸起有多个，多个所述搅拌凸起交错分布于所述混料腔的内壁上。