[实用新型]一种真空磁控溅射卷绕镀膜装置

说明书

本实用新型公开了一种真空磁控溅射卷绕镀膜装置，真空腔体、收放卷系统、真空获得系统以及磁控溅射区，在空腔体内设有呈圆弧形排布的靶极；靶极向待加工基材做功完成磁控溅射，靶极向待加工基材做功完成磁控溅射的区域是磁控溅射区；在真空腔体内设置收放卷系统，收放卷系统包括第一收放卷轴、第二收放卷轴、主动辊，调节辊包括导向辊、张力辊、展平辊，其中第一收放卷轴、第二收放卷轴位于真空腔体内趋向于真空腔体顶部的位置；在第一收放卷轴与主动辊之间以及在第二收放卷轴主动辊之间分别排布有一组调节辊，靶极与进入磁控溅射区的待加工基材的待加工面之间形成磁控溅射通道。本实用新型提高了镀膜的密度以及基材成品的屏蔽导通强度。

技术领域

本实用新型涉及一种真空磁控溅射卷绕镀膜装置。

背景技术

常用磁控溅射镀膜机存在以下缺点：（一）镀膜装置由真空腔体、靶极车、收放卷系统三部分构成，设备体积大，且真空腔体内部件设计不合理，占用较大空间，设备成本高。（二）溅射区滚筒多采用小直径辊，基材在辊与辊之间拉伸张开时易造成张力不均匀，使基材表面发生褶皱、凹凸不平，造成镀膜厚度不均匀、质量差，产品良率低；且制程能力较弱，可镀基材厚度较厚，一般基材厚度最薄只达7.5μm。（三）未能提高磁控溅射效率，其磁控溅射过程中，容易在基材体形成能量堆积，造成基材的变形甚至报废，也无法提高产品镀膜密度、厚度，性能低下，或者镀膜质量差等问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于针对上述缺陷，提供了一种真空磁控溅射卷绕镀膜装置。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：

一种真空磁控溅射卷绕镀膜装置，包括真空腔体、收放卷系统、真空获得系统以及磁控溅射区，在空腔体内设有呈圆弧形排布的靶极；靶极向待加工基材做功完成磁控溅射，靶极向待加工基材做功完成磁控溅射的区域是磁控溅射区；所述磁控溅射区是由位于真空腔体内趋向于真空腔体底部的位置呈弧形向真空腔体顶部方向延伸；在真空腔体内设置收放卷系统，收放卷系统包括第一收放卷轴、第二收放卷轴、主动辊，调节辊包括导向辊、张力辊、展平辊，其中第一收放卷轴、第二收放卷轴位于真空腔体内趋向于真空腔体顶部的位置；在第一收放卷轴与主动辊之间以及在第二收放卷轴主动辊之间分别排布有一组调节辊，待加工靶材由第一收放卷轴放卷，经由一组调节辊到主动辊的下半圆表面，在经过磁控溅射区时靶极向待加工基材做功完成磁控溅射，再经由另一组调节辊到第二收放卷轴上，第二收放卷轴带动待加工基材进行收卷；主动辊位于第一收放卷轴和第二收放卷轴的下方并同时位于靶极的上方，靶极对 主动辊呈现半包围状态；靶极与进入磁控溅射区的待加工基材的待加工面之间形成磁控溅射通道。

为了使磁控溅射区域更大，排布的靶极更多，主动辊选用大直径主动辊，主动辊直径大于第一收放卷轴、第二收放卷轴的直径。

第一收放卷轴、第二收放卷轴、主动辊呈三角形状排布。

第一收放卷轴、第二收放卷轴、主动辊呈等腰三角形状排布。

所有靶极在真空腔体内与主动辊的距离等距。

每一组调节辊所包含的导向辊、张力辊、展平辊在真空腔体内交错排布。

所述磁控溅射通道呈圆弧状。

第一可收放卷轴中的基材通过其中一组调节辊的导向辊、张力辊、展平辊进入到主动辊与磁控溅射通道，完成磁控溅射道出并经由另一组调节辊的展平辊、张力辊、导向辊收卷于第二可收放卷轴。从反方向的工作过程类似。

由于在使用选用的主动辊的直径较大，在真空腔体内占据真空腔体内的大部分的下半部段和少部分的上半部段。

两组调节辊的位置位于静止时的主动辊的上半部段的左右两侧。

有益效果