[实用新型]一种双线阵光谱探测装置及泵浦探测系统

权利要求书

1.一种双线阵光谱探测装置，其特征在于，包括：

第一分束器，用于将原始探测光分成两束光，分别作为目标探测光和参考光；

样品，所述目标探测光与泵浦光照射到所述样品的同一位置，所述参考光与所述泵浦光照射到所述样品的位置不同；

色散模块，用于同时对照射至所述样品后透过或反射的目标探测光和参考光分别进行色散；

双线阵光学探头，包括位置不同的第一感光区和第二感光区，经所述色散模块色散处理后的目标探测光照射至所述第一感光区，经所述色散模块色散处理后的参考光照射至第二感光区；

处理模块，与所述双线阵光学探头连接，所述处理模块用于根据所述双线阵光学探头探测到的色散处理后的参考光光谱和目标探测光光谱，获取所述样品的扣除探测光波动后的泵浦探测光谱。

2.根据权利要求1所述的双线阵光谱探测装置，其特征在于，所述第一分束器的分束比为1:1。

3.根据权利要求1所述的双线阵光谱探测装置，其特征在于，所述色散模块包括沿光路设置的入射狭缝、平面镜、第一凹面镜、光栅、第二凹面镜和出光孔。

4.根据权利要求1所述的双线阵光谱探测装置，其特征在于，所述双线阵光学探头包括下述至少一种：电荷耦合器件图像传感器和互补金属氧化物半导体图像传感器。

5.一种泵浦探测系统，其特征在于，包括：泵浦光产生模块和如权利要求1-4任一所述的双线阵光谱探测装置，

所述双线阵光学探头与所述泵浦光产生模块电连接，所述双线阵光学探头用于根据所述泵浦光产生模块有无产生泵浦光，确定当前探测到的色散处理后的目标探测光光谱和参考光光谱的类型。

6.根据权利要求5所述的泵浦探测系统，其特征在于，所述泵浦光产生模块包括沿光路设置的泵浦光产生光路、斩波装置和延迟装置；

所述双线阵光学探头与所述斩波装置电连接，所述双线阵光学探头用于根据所述斩波装置输出的斩波同步信号，确定所述双线阵光学探头当前探测到的色散处理后的目标探测光光谱和参考光光谱的类型。

7.根据权利要求5所述的泵浦探测系统，其特征在于，还包括：光源、第二分束器和原始探测光产生模块，

所述第二分束器用于将所述光源发射的光分成第一原始光束和第二原始光束，所述第一原始光束射入所述泵浦光产生模块，所述第二原始光束射入所述原始探测光产生模块，所述泵浦光产生模块用于将所述第一原始光束转换成泵浦光；所述原始探测光产生模块用于将所述第二原始光束转换成原始探测光。

8.根据权利要求7所述的泵浦探测系统，其特征在于，所述光源为脉冲光源，所述脉冲光源与所述双线阵光学探头电连接，所述双线阵光学探头用于在每接收到一次所述脉冲光源输出的触发信号时，对当前的色散处理后的目标探测光和参考光进行一次采集，其中，所述触发信号与所述脉冲光源发射的光脉冲同步且一一对应。