[实用新型]一种中心供液行星抛光装置

说明书

本实用新型公开了一种中心供液行星抛光装置，包括基座板、公转单元、自转单元、供液供气单元、加载单元和抛光轴组件；公转单元的公转电机通过一级带传动副将动力传递给中空公转轴，中空公转轴的一端设有连接法兰，连接法兰设有偏心调节机构；自转单元包括自转电机、传动软轴和抛光盘；供液供气单元的空心转轴与中空公转轴的另一端连接，抛光轴组件的空心抛光轴与供液供气单元中的供液管和自转单元的抛光盘连接；公转电机带动偏心调节机构绕轴线O₁公转；自转电机带动抛光盘绕其轴线O₂自转，该装置实现了将抛光液从工具中心进行供给，供液更加充分；公自转速度和偏心距可实现无极变化调节，且调节方便；自转电机不参与公转，降低了转动惯量。

技术领域

本实用新型涉及一种光学制造领域的行星抛光装置，尤其涉及一种中心供液的行星抛光装置。

背景技术

随着现代光学系统的迅猛发展，大口径非球面光学元件相对于普通球面镜片由于其精度高、质量轻、可靠性好和成本低等诸多优良特性被广泛应用于激光核聚变装置、大型天文望远镜、红外热成像、医疗影像设备等国防和民用尖端技术领域，其加工技术也在朝着高精度、高效率及高质量方向发展。

现阶段，非球面光学元件的抛光技术主要是计算机控制光学表面成型(ComputerControlled Optics Surfacing,CCOS)。国外大量研究表明，去除函数形状是影响抛光质量和效率重要因素，直接决定着最终面型误差能否收敛以及收敛的程度。传统自转动磨头抛光因磨头中心线速度为零，根据Preston假设会造成去除函数中心为零，获得中心为零的环形去除函数，导致面型误差收敛有限或不能收敛。然而行星抛光能够克服上述缺陷，获得较好的类Gauss型去除函数，使得工件表面面型误差快速收敛，提高加工精度与加工效率，因而被广泛应用于CCOS技术中。但是现有的行星抛光装置存在结构过于复杂、不可中心供液、转动惯量大和动力学性能差等缺点。例如，申请号为201710546844.X的专利文献中披露了《一种含双平行四边形机构的行星抛光装置》，该装置的自转与公转分别采用两个伺服电机驱动，公转传动采用双平行四边形机构实现，自转电机固定在基座上，采用二级带传动将运动传递给抛光盘。虽然，该技术方案能实现中心供液；是机构过于复杂，且运动不平稳。再如，申请号为201910266143.X的专利文献中公开了《一种行星抛光装置》，该装置的行星运动由行星轮系来实现，其结构紧凑，仅用一个电机可实现抛光盘的公转与自转，惯性力小；但不可中心供液，调节偏心距和公自转速比要更换不同齿数的齿轮和带轮，操作麻烦且调节范围小。

实用新型内容

针对现代大口径非球面光学元件超精密加工难度大，加工成本高，加工效率低等问题，本实用新型提出一种中心供液的行星抛光装置，实现了将抛光液从工具中心进行供给，供液更加充分；公自转速度和偏心距可实现无极变化调节(在允许的范围内)，且调节方便；自转电机不参与公转，降低了转动惯量。