[实用新型]一种被动站立状态下足底反射按摩器有效

专利信息
申请号: 202020876899.4 申请日: 2020-05-22
公开(公告)号: CN213219079U 公开(公告)日: 2021-05-18
发明(设计)人: 张绍华;章春霞;王玉龙;李浅峰;潘小华;梁伟容 申请(专利权)人: 深圳市大鹏新区南澳人民医院
主分类号: A61H39/04 分类号: A61H39/04;A61H15/00;A61G7/05;A61H1/00
代理公司: 上海申新律师事务所 31272 代理人: 沈栋栋
地址: 518000 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 被动 站立 状态 足底 反射 按摩
【权利要求书】:

1.一种被动站立状态下足底反射按摩器,包括:电动起立床以及设置在所述电动起立床尾部的站立板,其特征在于,所述站立板朝向患者的一侧设置有可拆卸的按摩鞋垫,所述按摩鞋垫的端面上设置有若干滚珠,若干所述滚珠可沿某一方向移动,所述按摩鞋垫的底部设置有驱动装置,所述驱动装置与若干所述滚珠驱动连接。

2.根据权利要求1所述的一种被动站立状态下足底反射按摩器,其特征在于,若干所述滚珠形成若干滚珠环,同一所述滚珠环上的所述滚珠沿所述按摩鞋垫的长度方向排布且移动。

3.根据权利要求2所述的一种被动站立状态下足底反射按摩器,其特征在于,沿所述按摩鞋垫的长度方向还设置有支撑块,每一所述滚珠环套设在所述支撑块上,且所述滚珠环的两端内侧均与所述驱动装置的输出端匹配连接。

4.根据权利要求1所述的一种被动站立状态下足底反射按摩器,其特征在于,若干所述滚珠形成若干滚珠环,同一所述滚珠环上的所述滚珠沿所述按摩鞋垫的宽度方向排布且移动。

5.根据权利要求4所述的一种被动站立状态下足底反射按摩器,其特征在于,沿所述按摩鞋垫的宽度方向还设置有支撑块,每一所述滚珠环套设在所述支撑块上,且所述滚珠环的两端内侧均与所述驱动装置的输出端匹配连接。

6.根据权利要求1所述的一种被动站立状态下足底反射按摩器,其特征在于,所述按摩鞋垫的上方设置有若干旋转板,每一所述旋转板通过转轴与所述鞋垫连接,且每一所述旋转板可绕转轴的轴心旋转,若干所述滚珠设置在所述旋转板的上端面。

7.根据权利要求6所述的一种被动站立状态下足底反射按摩器,其特征在于,所述驱动装置与所述转轴匹配连接。

8.根据权利要求1所述的一种被动站立状态下足底反射按摩器,其特征在于,还包括控制器,所述控制器设置在电动起立床的扶手处,且所述控制器与所述驱动装置信号连接。

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