[实用新型]一种260nm紫外激光发射装置有效

专利信息
申请号: 202020880052.3 申请日: 2020-05-23
公开(公告)号: CN211859148U 公开(公告)日: 2020-11-03
发明(设计)人: 李再金;李林;曲轶;乔忠良;赵志斌;曾丽娜;彭鸿雁 申请(专利权)人: 海南师范大学
主分类号: H01S5/06 分类号: H01S5/06;H01S5/0687;H01S5/12
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 571158 海南省*** 国省代码: 海南;46
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摘要:
搜索关键词: 一种 260 nm 紫外 激光 发射 装置
【权利要求书】:

1.一种260nm紫外激光发射装置,其特征在于,包括:520nm半导体激光器;520nm聚焦镜,其前后表面镀有112nm TiO2/62nm SiO2/97nm TiO2/60nm SiO2的光学膜;CLBO倍频晶体,其前表面镀有28nm HfO2/41nm SiO2/39nm HfO2/47nm SiO2/28nm HfO2/41nm SiO2/39nmHfO2/47nm SiO2/28nm HfO2/41nm SiO2/39nm HfO2/48nm SiO2/28nm HfO2/40nm SiO2/39nmHfO2/48nm SiO2/28nm HfO2/40nm SiO2/39nm HfO2/48nm SiO2/27nm HfO2的光学膜,后表面镀有76nm HfO2/24nm SiO2/39nm HfO2/44nm SiO2的光学膜;体光栅,其前表面镀74nm HfO2/96nm SiO2/62nm HfO2/94nm SiO2/64nm HfO2/88nm SiO2/69nm HfO2/83nm SiO2/73nm HfO2/81nm SiO2/74nm HfO2/81nm SiO2/73nm HfO2/84nm SiO2/69nm HfO2/90nm SiO2/59nm HfO2/103nm SiO2/50nm HfO2/114nm SiO2/73nm HfO2的光学膜,后表面镀77nm HfO2/19nm SiO2/41nm HfO2/45nm SiO2的光学膜,从520nm半导体激光器发射的520nm激光通过520nm聚焦镜会聚于CLBO倍频晶体中,520nm激光经过CLBO倍频晶体倍频产生260nm激光,260nm激光通过体光栅压缩260nm激光光谱线宽,实现260nm紫外激光发射。

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