[实用新型]一种深紫外波长激光发射装置有效
申请号: | 202020880357.4 | 申请日: | 2020-05-23 |
公开(公告)号: | CN211859143U | 公开(公告)日: | 2020-11-03 |
发明(设计)人: | 李再金;曲轶;李林;乔忠良;赵志斌;曾丽娜;彭鸿雁 | 申请(专利权)人: | 海南师范大学 |
主分类号: | H01S3/0933 | 分类号: | H01S3/0933;H01S3/16;H01S3/081;H01S3/109 |
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地址: | 571158 海南省*** | 国省代码: | 海南;46 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 深紫 波长 激光 发射 装置 | ||
本发明公开了一种深紫外波长激光发射装置,包括808nm半导体激光器;808nm聚焦镜;Nd:YVO4激光晶体;平面镜;LBO倍频;平凹镜A;CLBO倍频晶体;平凹镜B;228.5nm滤光片。808nm半导体激光器发射的808nm激光通过808nm聚焦镜将808nm激光聚焦到Nd:YVO4激光晶体中,Nd:YVO4激光晶体通过808nm激光泵浦发射914nm激光;914nm激光通过平面镜反射,再通过LBO倍频晶体倍频产生457nm激光;457nm激光通过平凹镜A反射,依次通过LBO倍频晶体和平面镜,再通过CLBO倍频晶体倍频产生新波长228.5nm激光;新波长228.5nm激光通过输出镜平凹镜B,最后通过228.5nm滤光片发射新波长228.5nm深紫外激光。
技术领域
本发明涉及深紫外全固态激光技术领域,特别涉及一种深紫外波长激光发射装置。
背景技术
深紫外激光是目前正在开发的一个重要激光应用领域。深紫外激光的开发将极大的推动光刻技术、激光精密加工、各种光电子能谱仪、激光光谱仪、激光Raman光谱仪等高技术领域和先进仪器制造业的发展。紫外激光器包含气体紫外激光器、固体紫外激光器、半导体激光二极管,这些是依据激光增益介质的形态划分的。常见的气体紫外激光器包括准分子激光器、离子激光器、氦-镉激光器、金属蒸汽紫外激光器。固体紫外激光器常见的有氪灯泵浦紫外激光器、氙灯泵浦紫外激光器、激光二极管泵浦固体紫外激光器。准分子激光器具有平均功率高的优点,但是由于其光束质量差、波段范围窄、调谐困难、不能研究超快过程,且大多含有有毒气体,其使用范围受到限制。传统的闪光灯泵浦的紫外激光器也由于一些如设备运营费用高、使用寿命短、占地面积大等缺点而迫使人们探索新的泵浦源。由于激光二极管的飞速发展,从而带动了激光二极管泵浦的固体激光器的快速发展。同时由于一些新型非线性晶体的出现,激光频率变换技术的成熟,使得全固态紫外激光器的紫外激光输出技术越来越成熟。全固态紫外激光因为具有光束质量好,可调谐的特点,且由于紫外波长较短的缘故,其空间分辨率也非常高,因此全固态紫外激光的应用非常广泛。
发明内容
本发明的目的在于提出一种深紫外波长激光发射装置。
一种深紫外波长激光发射装置,包括808nm半导体激光器;808nm聚焦镜;Nd:YVO4激光晶体;平面镜;LBO倍频;平凹镜A;倍频晶体CLBO;平凹镜B;228.5nm滤光片。
其特征在于:
808nm半导体激光器,其输出波长范围为808±3nm,连续输出最小功率为5W。
808nm聚焦镜,其前后表面镀有181.7nm TiO2/96.7nm SiO2/156.9 nm TiO2/94.1nm SiO2的光学膜。实现808nm处透过率大于99%。
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