[实用新型]一种化学镀装置有效
申请号: | 202020883207.9 | 申请日: | 2020-05-22 |
公开(公告)号: | CN212533124U | 公开(公告)日: | 2021-02-12 |
发明(设计)人: | 赵聪伟;颜茂俊;沈红阳;张涛 | 申请(专利权)人: | 上海广弘实业有限公司 |
主分类号: | C23C18/42 | 分类号: | C23C18/42 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 201500 上海市金*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 化学 装置 | ||
本实用新型涉及一种化学镀装置,属于化学镀设备。其主要技术方案包括溶液池与放置件,所述放置件包括与溶液池连接的连接部以及盛装部,所述盛装部具有用于盛装银块的盛装槽,所述盛装部与所述连接部连接,所述盛装部部分浸没于溶液池内。放置件使用时,连接部与溶液池连接,银块放置于盛装槽内,且银块浸没于溶液池内,通过放置件将银块悬挂于溶液池内,方便管理银块,同时放置件与溶液池连接,提高偷取银块的难度,降低银块被偷走的概率。
技术领域
本实用新型涉及领域化学镀技术领域,特别涉及一种化学镀装置。
背景技术
化学镀是一种新型的金属表面处理,因其镀层均匀、装饰性好的优点被广泛使用。
授权公告号为CN208643617U的中国实用新型,公开了一种通讯用的铜件电镀银设备,包括排水帽、底座、电镀箱、U型支架、电极棒、滚筒、传动架、轴承、控制器、调速器、平台,平台设于电镀箱的右侧,电镀箱和平台相互平行,平台顶面和控制器底面活动连接,传送架设于电镀箱内部并与电镀箱右侧内壁紧贴。
上述专利公开了一种电镀银设备,在电镀银的工业生产中,溶液池内盛装有氰化钾溶液,在氰化钾溶液中投入银块,银块会在氰化钾的溶液中分解产生银离子,电镀时,将产品放入溶液中,将产品表面镀银,但是由于银块较为贵重,银块沉入氰化钾溶液后容易被工作的员工偷走。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种化学镀装置,银块通过放置件与溶液池连接,提高偷取银块的难度。
本实用新型的目的是通过以下技术方案得以实现的:
一种化学镀装置,包括溶液池,还包括放置件,所述放置件包括与溶液池连接的连接部以及盛装部,所述盛装部具有用于盛装银块的盛装槽,所述盛装部与所述连接部连接,所述盛装部部分浸没于溶液池内。
通过采用上述技术方案,放置件使用时,连接部与溶液池连接,银块放置于盛装槽内,且银块浸没于溶液池内,通过放置件与溶液池连接,提高偷取银块的难度,降低银块被偷走的概率;同时,当银块溶液池不需要银块时,可将放置件从溶液池上取下,方便管理银块,避免造成不必要的浪费。
本实用新型进一步设置为:所述盛装部位于连接部的下方,所述盛装部具有开口,且开口朝上。
通过采用上述技术方案,当盛装部内的银块用完时,将新的银块从开口放入盛装部内,方便工作人员为溶液池添加银块;盛装部位于连接部的下方,连接部位于盛装部开口的上方,当有人想利用工具夹取盛装部内的银块时,连接部起到遮挡和干涉的作用,提高取出盛装部内银块的难度。
本实用新型进一步设置为:所述连接部架设于溶液池,且连接部的两端均与溶液池顶面连接。
通过采用上述技术方案,连接部的两端均与溶液池顶面连接,相比于连接部的一端与溶液池连接更加牢固。
本实用新型进一步设置为:所述溶液池顶面开设有若干嵌装槽,所述连接部的两端分别嵌入不同的嵌装槽中。
通过采用上述技术方案,连接部与溶液池连接时,连接部的端部嵌入嵌装槽内,使连接部与溶液池连接更加牢固,避免连接部在溶液池顶面移动。
本实用新型进一步设置为:所述嵌装槽槽底涂布有胶水层。
通过采用上述技术方案,连接部的端部嵌入嵌装槽内后,连接部的端部通过胶水与嵌装槽槽壁连接,进一步提高连接部与溶液池之间连接的牢固度。
本实用新型进一步设置为:所述连接部靠近溶液池池底的侧面设置有凸块,所述盛装部的开口边沿延伸有连接片,所述连接片与凸块连接。
通过采用上述技术方案,通过连接部与凸块连接,使盛装部与连接部连接,且盛装部位于连接部的下方;连接片从盛装部的开口延伸,使得连接部与盛装部的开口具有一定的间隙,方便工作人员为盛装部添加银块。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理