[实用新型]铜蚀刻液预处理系统

权利要求书

1.一种铜蚀刻液预处理系统，其特征在于：包括依次连接设置的用于制备铜蚀刻液的反应釜(1)、用于对铜蚀刻液进行初步过滤的初步过滤装置(2)和用于对铜蚀刻液进行初步过滤的二次过滤装置(3)，所述反应釜(1)底部设有出液口，所述初步过滤装置(2)和二次过滤装置(3)顶部均设有进液口，所述初步过滤装置(2)和二次过滤装置(3)底部均设有出液口；所述反应釜(1)的出液口与初步过滤装置(2)的进液口之间设有第一水泵(12)，所述初步过滤装置(2)的出液口与二次过滤装置(3)的进液口之间设有第二水泵(21)；所述初步过滤装置(2)和二次过滤装置(3)内均可拆卸连接有多层过滤芯(4)。

2.根据权利要求1所述的铜蚀刻液预处理系统，其特征在于：所述初步过滤装置(2)和二次过滤装置(3)均包括方形的过滤罐体(5)，两个所述过滤罐体(5)的外侧壁一侧均沿其高度方向开设有多个插入孔(51)，所述过滤芯(4)通过插入孔(51)水平插入过滤罐体(5)内。

3.根据权利要求2所述的铜蚀刻液预处理系统，其特征在于：所述过滤芯(4)包括支撑板(41)和过滤网(42)，所述支撑板(41)顶部开设有放置槽(411)，所述过滤网(42)沿其周向设有支撑框架(421)，所述过滤网(42)卡嵌设置在放置槽(411)内，所述支撑板(41)通过插入孔(51)滑动设置在过滤罐体(5)内。

4.根据权利要求3所述的铜蚀刻液预处理系统，其特征在于：所述插入孔(51)的孔径高度由外至内依次减小，所述支撑板(41)卡嵌在插入孔(51)的一端与插入孔(51)形状适配。

5.根据权利要求4所述的铜蚀刻液预处理系统，其特征在于：所述插入孔(51)的内侧壁上铺设有弹性垫(52)。

6.根据权利要求2所述的铜蚀刻液预处理系统，其特征在于：两个所述过滤罐体(5)顶部均设有用于显示过滤罐体(5)内部气压的压力表(53)，两个所述过滤罐体(5)顶部还开设有进气管道(54)，所述进气管道上设有控制其启闭的电磁阀(541)，两个所述压力表(53)共同连接有控制器，所述控制器的输入端与电磁阀(541)连接。

7.根据权利要求3所述的铜蚀刻液预处理系统，其特征在于：所述初步过滤装置(2)的过滤网(42)的孔径大于二次过滤装置(3)的过滤网(42)的孔径。

8.根据权利要求1所述的铜蚀刻液预处理系统，其特征在于：所述二次过滤装置(3)的出液口连接有出液管道(55)，所述出液管道(55)的外侧壁上连通有取样管道(551)。

9.根据权利要求2所述的铜蚀刻液预处理系统，其特征在于：所述过滤罐体(5)上转动设置有多个用于将过滤芯(4)固定在过滤罐体(5)上的拨片(56)。

10.根据权利要求1所述的铜蚀刻液预处理系统，其特征在于：所述反应釜(1)的底部设有搅拌电机(11)，所述搅拌电机(11)的输出轴伸入反应釜(1)内连接有搅拌转子(111)。