[实用新型]一种发光二极管有效

专利信息
申请号: 202020886966.0 申请日: 2020-05-25
公开(公告)号: CN212033039U 公开(公告)日: 2020-11-27
发明(设计)人: 周宏敏;汤恒;董金矿;李政鸿;林兓兓;张家豪 申请(专利权)人: 安徽三安光电有限公司
主分类号: H01L33/06 分类号: H01L33/06;H01L33/14;H01L33/32
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 241000 安徽省*** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 发光二极管
【说明书】:

本实用新型属于半导体技术领域,尤其涉及一种发光二极管,至少包括依次层叠的衬底、第一导电型半导体层、发光层和第二导电型半导体层,以及第一电极和第二电极,所述第一电极与第一导电型半导体层电性连接,所述第二电极与第二导电型半导体层电性连接,所述发光层包括由量子阱层和量子垒层交替层叠的量子阱结构,其特征在于:所述量子阱层包括第一量子阱层和第二量子阱层,所述第二量子阱层位于第一量子阱层和量子垒层之间,所述第二量子阱层的能隙小于第一量子阱层。本实用新型可以降低量子阱层中的极化电场,提高发光效率。

技术领域

发明属于半导体技术领域,尤其涉及一种具有量子阱结构的发光二极管。

背景技术

以GaN为代表的宽禁带材料,是继Si和GaAs之后的第三代半导体。目前通常在蓝宝石衬底的C面上外延生长GaN基LED,得到的是c面GaN。III-V族氮化物材料的空间结构不具有空间中心反演对称,并且V族元素的原子和N原子的电负性相差很大,因此沿GaN的0001方向具有很强的极性.这一极化效应将产生强度较高的内建电场,并且使正负载流子在空间上分离,这样导致发光波长红移,更严重的后果是电子和空穴波函数交叠变少,材料的发光效率大大降低。

发明内容

因此,本实用新型通过对量子阱的改进,尤其是量子阱中阱层的设计,使其内部的极化效应降低,具体技术方案如下:

本实用新型提供一种发光二极管,至少包括依次层叠的衬底、第一导电型半导体层、发光层和第二导电型半导体层,以及第一电极和第二电极,所述第一电极与第一导电型半导体层电性连接,所述第二电极与第二导电型半导体层电性连接,所述发光层包括由量子阱层和量子垒层交替层叠的量子阱结构,其特征在于:所述量子阱层包括第一量子阱层和第二量子阱层,所述第二量子阱层位于第一量子阱层和量子垒层之间,所述第二量子阱层的能隙小于第一量子阱层。

优选的,所述第二量子阱层的厚度小于第一量子阱层的厚度。

优选的,所述第一量子阱层和第二量子阱层均为包含In的材料层,所述第一量子阱层的In含量小于第二量子阱层的In含量。

优选的,所述第一量子阱层为InxGa1-xN,0x<1,所述第二量子阱层为InyGa1-yN,0y≤1,其中y>x。

优选的,所述第一量子阱层为InGaN层,所述第二量子阱层为InN层或者InGaN层,第二量子阱层中的In含量大于第一量子阱层中的In含量。

优选的,所述第二量子阱层的厚度与第一量子阱层的厚度比例范围为1:100~1:10。

优选的,所述第一量子阱层的厚度范围为10~100埃。

优选的,所述第二量子阱层的厚度为0.1~10埃。

优选的,所述量子阱层和量子垒层交替层叠的周期数为5~50。

优选的,所述发光层和第二导电型半导体层之间还包括电子阻挡层。

优选的,所述发光二极管还包括衬底,所述第一导电型半导体层层叠宇衬底之上。

优选的,所述衬底和第一导电型半导体层之间还包括缓冲层。

优选的,所述第二导电型半导体层和第二电极之间还包括接触层。

优选的,所述发光二极管为大电流发光二极管。

本实用新型将量子阱层设计为由In含量不同的第一量子阱层和第二量子阱层组成,并且将In含量较高的第二量子阱层设置于第一量子阱层和量子垒层之间,从而使极化电场在压电效应的作用下在第一量子阱层和第二量子阱层的界面处发生反转,降低第一量子阱层的极化效应,从而提高发光层的发光效率。

附图说明

图1为本实用新型之发光二极管之截面结构示意图。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于安徽三安光电有限公司,未经安徽三安光电有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202020886966.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top