[实用新型]一种用于多晶硅加工废料的清洗设备

说明书

本实用新型涉及资源回收技术领域，具体是涉及一种用于多晶硅加工废料的清洗设备，包括水洗室、酸洗室和洗篮；水洗室的入口处设置有水洗室门，水洗室沿中心轴方向、自上而下依次设置有水洗喷头、水洗凹槽以及集液槽；酸洗室的入口处设置有酸洗室门，酸洗室沿中心轴方向、自上而下依次设置有输送装置和酸洗槽；洗篮呈筒型，是由洗篮盖、漏网式的洗篮筒和设置在洗篮筒中轴部、贯通洗篮筒底面的金属空心杆组成；本实用新型通过“双层门”设计，实现硅废料的清洗过程中，操作人员与酸液和酸雾的零接触，且本实用新型将酸洗、清洗和干燥工艺结合在同一个设备中，避免了清洁后硅废料的二次污染。

技术领域

本实用新型涉及资源回收技术领域，具体是涉及一种用于多晶硅加工废料的清洗设备。

背景技术

随着多晶硅产能逐渐增加，原料对生产商而言有更多的选择，同时也会放弃一些利用价值低的废料。但对处理相对简单，低成本的可再利用料仍可以降低成本，这些主要是坩埚底料和半导体废片料等。

我们在对埚底料和半成品半导体硅片进行除石英和金属电路处理上通常采用洗篮和花篮静止泡洗12小时(根据酸的浓度和比例)。这种方法是最简易和节约成本的。问题在于静止过程中料的表面和酸反应、酸的处理能力需要长时间慢慢释放。在此种情况下，如果加入循环泵，用于搅拌酸液，缩短浸泡时间更能起到均匀处理的作用。

在生产单晶棒和多晶块时，使用的硅料的纯度须达到99.9999％以上。酸洗的目的主要是去除金属离子和氧化皮，原生多晶主要是在炸料时产生，头尾埚底及碎片主要是在切割时等情况产生。如今一般企业都采用二槽式手动酸洗产品，对操作人员要求相对较高，存在酸雾和酸液对操作人员的危害风险。

因此，设计一种能够避免多晶硅废料废料清洗过程中酸液和酸雾对于操作人员的危害的清洗设备具有实际意义。

实用新型内容

为实现以上目的，本实用新型提供了一种多晶硅废料清洗设备，通过“双层门”设计，能够实现对硅废料的清洗过程中，操作人员与酸液和酸雾的零接触，从根源上避免了酸液和酸雾对于操作人员健康的危害，具体的技术方案如下：

一种用于多晶硅加工废料的清洗设备，包括水洗室、酸洗室和洗篮，其具体的结构如下：

水洗室的入口处设置有水洗室门，水洗室沿中心轴方向、自上而下依次设置有水洗喷头、水洗凹槽以及集液槽。

在硅废料酸洗后，虽然经过了漂洗和冲洗，但在硅废料的表面或缝隙处仍有可能残留酸。如果直接干燥，残留酸会对硅废料进行氧化，因此还需在酸洗后进行漂洗。现在一般厂家采用酸洗后经过二级超声漂洗后，烘干、包装，还有一种是在超声漂洗后，再在ID水中养一段时间后烘干、包装。但是这些方法均需要将硅废料浸泡在纯水中，反复使用循环水冲洗，这就会导致循环水中的酸液浓度会逐渐上升，若不及时更换就会降低硅废料的清洁度。

为了解决以上问题，本实用新型设计了活水冲洗装置，使用水洗喷头直接对水洗凹槽上的洗篮进行冲洗，避免了冲洗水中的酸液存留在硅废料的表面或缝隙处。

酸洗室的入口处设置有酸洗室门，酸洗室沿中心轴方向、自上而下依次设置有输送装置和酸洗槽。

在生产单晶棒和多晶块时，使用的硅料的纯度须达到.％以上。酸洗的目的主要是去除金属离子和氧化皮，原生多晶主要是在炸料时产生，头尾埚底及碎片主要是在切割时等情况产生。如今一般企业都采用二槽式手动酸洗产品，对操作人员要求相对较高，存在酸雾和酸液对操作人员的危害风险。

考虑到以上安全问题，本实用新型采用“双层门”(水洗室门、酸洗室门)轮流闭合的工作方式，从根源上避免了操作人员接触到酸液和酸液挥发出来的酸雾，既保障了操作人员的人身安全，也将酸洗过程和清洗过程完全隔离，保证了清洗后硅废料的清洗度。

洗篮呈筒型，是由洗篮盖、漏网式的洗篮筒和设置在洗篮筒中轴部、贯通洗篮筒底面的金属空心杆组成。