[实用新型]一种具有凹槽结构的气缸盖模具有效

专利信息
申请号: 202020910486.3 申请日: 2020-05-27
公开(公告)号: CN212285791U 公开(公告)日: 2021-01-05
发明(设计)人: 朱民;林立涛 申请(专利权)人: 沈阳广宇金属制品有限公司
主分类号: B22C9/22 分类号: B22C9/22;B22C9/06
代理公司: 北京智宇正信知识产权代理事务所(普通合伙) 11876 代理人: 于理科
地址: 110100 辽宁省抚顺*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要:
搜索关键词: 一种 具有 凹槽 结构 缸盖 模具
【权利要求书】:

1.一种具有凹槽结构的气缸盖模具,包括底模(1)、前模(4)、后模(5)、左模(2)、右模(3),底模(1)位于模具的下方,左模(2)、右模(3)、前模(4)和后模(5)通过滑道在底模(1)上进行开合,形成气缸盖燃烧室及水套芯、气道芯的定位,前模(4)、后模(5)、左模(2)和右模(3)形成气缸盖的外表形状,其特征在于:所述前模(4)上设置有凹槽结构(6)。

2.根据权利要求1所述的一种具有凹槽结构的气缸盖模具,其特征在于:所述凹槽结构(6)设置于前模(4)的中上部。

3.根据权利要求2所述的一种具有凹槽结构的气缸盖模具,其特征在于:所述凹槽结构(6)的截面包括但不限于半圆形、等腰三角形、等边三角形。

4.根据权利要求3所述的一种具有凹槽结构的气缸盖模具,其特征在于:所述凹槽结构(6)的截面为半圆形。

5.根据权利要求4所述的一种具有凹槽结构的气缸盖模具,其特征在于:半圆形的所述凹槽结构(6)的半径为0.3-0.8mm、深度为0.3-0.8mm、凹槽间距为3-10mm。

6.根据权利要求5所述的一种具有凹槽结构的气缸盖模具,其特征在于:半圆形的所述凹槽结构(6)的半径为0.5mm、深度为0.5mm、凹槽间距为6mm。

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