[实用新型]一种用于液晶显示屏的阵列基板结构

说明书

本实用新型公开了一种用于液晶显示屏的阵列基板结构，所述阵列基板结构的平面结构上包括显示区，设于显示区外的引出走线区、集成芯片绑定区和软性电路板绑定区，所述引出走线区的走线由旋涂光刻胶的方式形成，所述引出走线区包括若干组走线，每组走线包括若干条走线，若干条走线中的相邻条走线之间的线距一致，若干组走线中的相邻组走线之间的距离也一致，且该相邻组走线之间的距离大于或者等于每组走线的宽度，这样可以加大相邻组走线之间的距离，有效将走线拐角线的位置错开，错开后的拐角线形成的N形线的宽度更宽，从而改善了由旋涂光刻胶造成的mura问题。

技术领域

本实用新型涉及液晶显示技术领域，更具体地涉及一种用于液晶显示屏的阵列基板结构。

背景技术

在液晶显示屏中， 阵列基板的制作中需要在不同层一层一层经过涂胶、曝光、显影的工序。其中，涂胶工序的方式有两种：一种是通过刮涂的方式，形成光刻胶；另一种是通过旋涂的方式，形成光刻胶。本申请针对的是通过旋涂的方式，形成光刻胶的技术。

通常液晶显示屏分为显示区AA，引出走线区，集成芯片绑定区及软性电路板绑定区，其中引出走线区形成在显示区的外围，包括扫描线走线1和数据线走线2，这些扫描线走线1和数据线走线2分别通过设置于横向和纵向一侧的焊盘与其他信号装置连接，所述扫描线走线1与薄膜晶体管的栅极相连，用于导通薄膜晶体管；所述数据线走线2与薄膜晶体管的源极相连，用于给像素提供电压。本申请中的扫描线走线1和数据线走线2的设置方式为现有技术中的常规机构，本申请不作详细描述。现有技术中的引出走线通常采用相邻走线进行相同线宽线距的走线间隔，当进行旋涂式涂光刻胶时，在引出走线拐角位置容易积存光刻胶，进而造成因走线拐角位置旋转甩出的光刻胶偏厚，所述引出走线的拐角位置就会形成一条又细又长的光刻胶拐角线（如图1中的N’形线），由于光刻胶的厚度不同，在相同的曝光量下，而每一处的光刻胶与光反应的深度却是相同的，较厚的光刻胶下会有部分光刻胶反应不完全，最后造成去光阻后的线宽更大，而完成曝光和显影工艺后，造成走线拐角位置与直线路径上的线宽大小不同，以及显示区内在拐角扩散路径上的线宽与其它位置的线宽大小不同，进而形成人眼能看见的显示mura缺陷。

实用新型内容

为了解决所述现有技术的不足，本实用新型提供了一种改善由旋涂光刻胶造成的mura问题的用于液晶显示屏的阵列基板结构。

本实用新型所要达到的技术效果通过以下方案实现：一种用于液晶显示屏的阵列基板结构，所述阵列基板结构的平面结构上包括显示区，设于显示区外的引出走线区、集成芯片绑定区和软性电路板绑定区，所述引出走线区的走线由旋涂光刻胶的方式形成，所述引出走线区包括若干组走线，每组走线包括若干条走线，若干条走线中的相邻条走线之间的线距一致，若干组走线中的相邻组走线之间的距离也一致，且该相邻组走线之间的距离大于或者等于每组走线的宽度。

优选地，所述若干条走线的数量为3条及以上形成一组走线。

优选地，每组走线的宽度优选大于等于100μm。

优选地，所述引出走线区的走线包括数据线走线、扫描线走线、以及用于修复数据线走线和扫描线走线的修复线。

优选地，用于扫描线走线的修复线与扫描线走线的数量相同，用于数据线走线的修复线与数据线走线的数量相同。

优选地，所述引出走线区的走线材质为铬、钼或铝中的一种或多种的组合合金。

优选地，所述引出走线区的走线材质为钼、铝合金。

本实用新型具有以下优点：