[实用新型]一种具有投影微调机构的光刻设备有效
申请号: | 202020943807.X | 申请日: | 2020-05-29 |
公开(公告)号: | CN211857180U | 公开(公告)日: | 2020-11-03 |
发明(设计)人: | 温伟华 | 申请(专利权)人: | 广东台名智能设备有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03B21/54 |
代理公司: | 深圳科湾知识产权代理事务所(普通合伙) 44585 | 代理人: | 钟斌 |
地址: | 523000 广东省东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 具有 投影 微调 机构 光刻 设备 | ||
1.一种具有投影微调机构的光刻设备,具有除静电功能的光刻设备,所述光刻设备包括:传输机构(1)、投影机构(3)、投影支架(4)和机箱(5),所述传输机构(1)、所述投影机构(3)和所述投影支架(4)都位于所述机箱(5)的内部,所述传输机构(1)从所述机箱(5)的前端延伸至后端,所述投影机构(3)固定在所述投影支架(4)上,所述投影支架(4)位于所述机箱(5)的后端;其特征在于:所述投影支架(4)包括:支架主体(41)和投影微调机构,所述投影微调机构固定在所述支架主体(41)的上端,所述投影微调机构包括:纵向滑轨(42)和横向滑轨(43),所述横向滑轨(43)沿前后方向可移动地设置在所述纵向滑轨(42)上,所述投影机构(3)沿左右方向可移动地设置在所述横向滑轨(43)上。
2.根据权利要求1所述的具有投影微调机构的光刻设备,其特征在于:所述支架主体(41)由石材形成。
3.根据权利要求1所述的具有投影微调机构的光刻设备,其特征在于:所述纵向滑轨(42)为两个,两个纵向滑轨(42)沿左右方向相互分离,所述横向滑轨(43)沿前后方向可移动地设置在两个纵向滑轨(42)上。
4.根据权利要求1所述的具有投影微调机构的光刻设备,其特征在于:所述纵向滑轨(42)包括:纵向轨道(421)、纵向滑轮组件(422)和纵向连接件(423),所述纵向滑轮组件(422)沿前后方向可移动地设置在所述纵向轨道(421)中,所述纵向连接件(423)的上端与所述纵向滑轮组件(422)形成固定,所述纵向连接件(423)的下端与所述横向滑轨(43)形成固定。
5.根据权利要求1所述的具有投影微调机构的光刻设备,其特征在于:所述横向滑轨(43)包括:横向轨道(431)、横向滑轮组件(432)和和横向连接件(433),所述横向滑轮组件(432)沿左右方向可移动地设置在所述横向轨道(431)中,所述横向连接件(433)的上端与所述横向滑轮组件(432)形成固定,所述横向连接件(433)的下端与所述投影机构(3)形成固定。
6.根据权利要求5所述的具有投影微调机构的光刻设备,其特征在于:所述投影机构(3)包括:多个投射光源(31)和多个支撑杆(32),所述投射光源(31)固定在所述支撑杆(32)上,多个投射光源(31)呈矩阵式排列,所述横向连接件(433)的下端与所述支撑杆(32)形成固定。
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