[实用新型]一种提高电镀园区产水率的废水处理系统有效
| 申请号： | 202020944519.6 | 申请日： | 2020-05-29 |
| 公开（公告）号： | CN212581636U | 公开（公告）日： | 2021-02-23 |
| 发明（设计）人： | 刘文将 | 申请（专利权）人： | 天津滨港电镀企业管理有限公司 |
| 主分类号： | C02F9/02 | 分类号： | C02F9/02;C02F1/44;C02F103/16 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 301600 天津市*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 提高 电镀 园区产水率 废水处理 系统 | ||
【权利要求书】：
1.一种提高电镀园区产水率的废水处理系统，包括废水池、吸附系统、过滤系统、超滤系统和反渗透系统，其特征在于：所述废水池的输出端与吸附系统的输入端连接，所述吸附系统的输出端与过滤系统的输入端连接，所述过滤系统的输出端与超滤系统的输入端设有第一产水池，所述超滤系统的输出端与反渗透系统的输出端通过第二产水池连接，所述第一产水池的输出端设有溶药池，所述第一产水池的输出端与溶药池通过供水泵连接。
2.根据权利要求1所述的一种提高电镀园区产水率的废水处理系统，其特征在于：所述第一产水池的输出端设有MCR膜反洗系统。
3.根据权利要求1所述的一种提高电镀园区产水率的废水处理系统，其特征在于：所述吸附系统为A/O吸附系统。
4.根据权利要求1所述的一种提高电镀园区产水率的废水处理系统，其特征在于：所述过滤系统为MCR膜过滤系统。
5.根据权利要求1所述的一种提高电镀园区产水率的废水处理系统，其特征在于：所述第一产水池为MCR膜水池。
6.根据权利要求1所述的一种提高电镀园区产水率的废水处理系统，其特征在于：所述第二产水池为超滤产水池。
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