[实用新型]一种化工生产用旋转反应平台

说明书

本实用新型公开了一种化工生产用旋转反应平台，属于化工技术领域，包括底座，底座的一侧安装有操作台，底座的内部下方安装有电机，电机的输出端通过驱动轴连接有旋转台，在旋转台放置反应釜前，工作人员将多个限位环取出，当反应釜放置于旋转台上后，反应釜会将其底部的防滑块压下，让防滑块使得压缩弹簧形变从而使得防滑块卡入定位槽中，而其相邻位置的防滑块则会挡在其四周，从而使得对反应釜进行限位，随后工作人员将限位环通过滑块在滑槽内重新卡入，使得限位环套在反应釜四周，进一步对其限位，且由于多个限位环的内径不同，使得可以对不同类型的反应釜进行限位，加强旋转台旋转过程中反应釜的稳定性。

技术领域

本实用新型涉及化工技术领域，具体为一种化工生产用旋转反应平台。

背景技术

当反应釜在反应过程中，部分反应需要用到旋转运动，因此需要使得旋转反应平台。

根据公开号为CN208449323U的中国专利公开了一种化工生产用旋转反应平台，其在卧式反应釜的内部的两端底部设置收集废渣的定位槽，同时在反应生成过程中，旋转台带动反应釜旋转，反应中凝成的重量较大的颗粒被离心力作用甩到两端的定位槽中，一次性将反应和分离同时完成，大大加快了生产效率，减少了工序浪费，但是在反应釜位于旋转台上旋转后，由于离心力同样会使得反应釜的整体重心发生改变，从而容易使得反应釜在旋转过程中出现倒塌的情况，对反应釜造成损伤。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种化工生产用旋转反应平台，以解决上述背景技术中提出旋转台带动反应釜旋转使得反应釜倒塌损伤的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种化工生产用旋转反应平台，包括底座，所述底座的一侧安装有操作台，所述底座的内部下方安装有电机，所述电机的输出端通过驱动轴连接有旋转台，所述旋转台的外侧通过连接架安装有旋转辊，所述旋转台的顶部贯穿有多个定位槽，所述定位槽的内部通过压缩弹簧连接有防滑块，所述底座的内部自上而下分别开设有滑槽和环形滑轨，所述底座的内部上方安装有多个限位环，所述限位环的两侧均通过连接杆固定有滑块。

优选地，所述旋转台通过旋转辊与环形滑轨滚动连接。

优选地，多个所述防滑块均呈半圆形，且多个所述防滑块分布均匀。

优选地，多个所述防滑块均与定位槽相适配。

优选地，多个所述限位环的内径自上而下逐渐扩大，且多个所述限位环均通过连接杆和滑块与滑槽滑动连接。

优选地，所述底座的底部面积大于底座的顶部面积，且所述底座的底部粗糙。

优选地，所述操作台与电机电性连接。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：该化工生产用旋转反应平台设置有定位槽、压缩弹簧、防滑块、滑槽和限位环，在旋转台放置反应釜前，工作人员将多个限位环取出，当反应釜放置于旋转台上后，反应釜会将其底部的防滑块压下，让防滑块使得压缩弹簧形变从而使得防滑块卡入定位槽中，而其相邻位置的防滑块则会挡在其四周，从而使得对反应釜进行限位，随后工作人员将限位环通过滑块在滑槽内重新卡入，使得限位环套在反应釜四周，进一步对其限位，且由于多个限位环的内径不同，使得可以对不同类型的反应釜进行限位，加强旋转台旋转过程中反应釜的稳定性，避免了旋转台带动反应釜旋转使得反应釜倒塌损伤的情况。

附图说明

图1为本实用新型结构示意图；

图2为本实用新型底座剖面结构示意图；

图3为本实用新型限位环的结构示意图；

图4为本实用新型A的局部放大结构示意图。