[实用新型]一种金属电镀前的处理设备有效

专利信息
申请号: 202020960500.0 申请日: 2020-05-29
公开(公告)号: CN212199447U 公开(公告)日: 2020-12-22
发明(设计)人: 邹本辉 申请(专利权)人: 苏州融睿电子科技有限公司
主分类号: C25D5/34 分类号: C25D5/34
代理公司: 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 代理人: 衡滔
地址: 215000 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 金属 电镀 处理 设备
【权利要求书】:

1.一种金属电镀前的处理设备,其特征在于,包括:

真空装置;

密闭加热装置,所述真空装置与所述密闭加热装置连通;

氢气装置,所述氢气装置与所述密闭加热装置连通;

其中,所述密闭加热装置用于加热金属;所述真空装置用于对所述密闭加热装置内的金属进行真空处理;所述氢气装置用于往所述密闭加热装置中通入氢气。

2.根据权利要求1所述的处理设备,其特征在于,所述处理设备还包括氢气排放装置,所述氢气排放装置与所述密闭加热装置连通,用于排放所述密闭加热装置中通入的氢气。

3.根据权利要求1所述的处理设备,其特征在于,所述处理设备还包括氮气装置,所述氮气装置与所述密闭加热装置连通,用于往所述密闭加热装置中通入氮气。

4.根据权利要求3所述的处理设备,其特征在于,所述氮气装置包括氮气供应装置和氮气进气管道;所述氮气供应装置通过所述氮气进气管道与所述密闭加热装置连通。

5.根据权利要求4所述的处理设备,其特征在于,所述氮气装置还包括设置在所述氮气进气管道上的阀门,所述阀门用于调整通入的氮气的流量。

6.根据权利要求1所述的处理设备,其特征在于,所述氢气装置包括氢气供应装置和氢气进气管道;所述氢气供应装置通过所述氢气进气管道与所述密闭加热装置连通。

7.根据权利要求6所述的处理设备,其特征在于,所述氢气装置还包括设置在所述氢气进气管道上的阀门,所述阀门用于调整通入的氢气的流量。

8.根据权利要求1所述的处理设备,其特征在于,所述密闭加热装置包括:密闭的腔室和设置在所述密闭的腔室内的加热元件。

9.根据权利要求1所述的处理设备,其特征在于,所述真空装置包括真空泵、连接管和阀门;所述真空泵通过所述连接管与所述密闭加热装置连通,所述阀门设置在所述连接管上,用于调整所述真空泵的真空压力。

10.根据权利要求1所述的处理设备,其特征在于,所述处理设备还包括控制系统和显示仪表;

所述控制系统与所述真空装置、所述密闭加热装置和所述氢气装置分别连接,用于控制所述真空装置、所述密闭加热装置以及所述氢气装置的各自的开启或者关闭;

所述显示仪表与所述密闭加热装置连接,用于测量并显示所述密闭加热装置中的温度和气压。

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