[实用新型]一种金属电镀前的处理设备有效
申请号: | 202020960500.0 | 申请日: | 2020-05-29 |
公开(公告)号: | CN212199447U | 公开(公告)日: | 2020-12-22 |
发明(设计)人: | 邹本辉 | 申请(专利权)人: | 苏州融睿电子科技有限公司 |
主分类号: | C25D5/34 | 分类号: | C25D5/34 |
代理公司: | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人: | 衡滔 |
地址: | 215000 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 金属 电镀 处理 设备 | ||
1.一种金属电镀前的处理设备,其特征在于,包括:
真空装置;
密闭加热装置,所述真空装置与所述密闭加热装置连通;
氢气装置,所述氢气装置与所述密闭加热装置连通;
其中,所述密闭加热装置用于加热金属;所述真空装置用于对所述密闭加热装置内的金属进行真空处理;所述氢气装置用于往所述密闭加热装置中通入氢气。
2.根据权利要求1所述的处理设备,其特征在于,所述处理设备还包括氢气排放装置,所述氢气排放装置与所述密闭加热装置连通,用于排放所述密闭加热装置中通入的氢气。
3.根据权利要求1所述的处理设备,其特征在于,所述处理设备还包括氮气装置,所述氮气装置与所述密闭加热装置连通,用于往所述密闭加热装置中通入氮气。
4.根据权利要求3所述的处理设备,其特征在于,所述氮气装置包括氮气供应装置和氮气进气管道;所述氮气供应装置通过所述氮气进气管道与所述密闭加热装置连通。
5.根据权利要求4所述的处理设备,其特征在于,所述氮气装置还包括设置在所述氮气进气管道上的阀门,所述阀门用于调整通入的氮气的流量。
6.根据权利要求1所述的处理设备,其特征在于,所述氢气装置包括氢气供应装置和氢气进气管道;所述氢气供应装置通过所述氢气进气管道与所述密闭加热装置连通。
7.根据权利要求6所述的处理设备,其特征在于,所述氢气装置还包括设置在所述氢气进气管道上的阀门,所述阀门用于调整通入的氢气的流量。
8.根据权利要求1所述的处理设备,其特征在于,所述密闭加热装置包括:密闭的腔室和设置在所述密闭的腔室内的加热元件。
9.根据权利要求1所述的处理设备,其特征在于,所述真空装置包括真空泵、连接管和阀门;所述真空泵通过所述连接管与所述密闭加热装置连通,所述阀门设置在所述连接管上,用于调整所述真空泵的真空压力。
10.根据权利要求1所述的处理设备,其特征在于,所述处理设备还包括控制系统和显示仪表;
所述控制系统与所述真空装置、所述密闭加热装置和所述氢气装置分别连接,用于控制所述真空装置、所述密闭加热装置以及所述氢气装置的各自的开启或者关闭;
所述显示仪表与所述密闭加热装置连接,用于测量并显示所述密闭加热装置中的温度和气压。
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