[实用新型]一种具有石墨烯导电膜的VCSEL有效

专利信息
申请号: 202020968389.X 申请日: 2020-06-01
公开(公告)号: CN212435033U 公开(公告)日: 2021-01-29
发明(设计)人: 田宇;李峰柱;韩效亚;杜石磊 申请(专利权)人: 厦门乾照半导体科技有限公司
主分类号: H01S5/042 分类号: H01S5/042;H01S5/183;H01S5/187;H01S5/34
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 361001 福建省厦门市*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 具有 石墨 导电 vcsel
【权利要求书】:

1.一种具有石墨烯导电膜的VCSEL,其特征在于,包括:

衬底;

设置于所述衬底表面的外延叠层,所述外延叠层包括以第一方向依次堆叠的N型DBR层、N型波导限制层、量子阱、P型波导限制层、氧化层、P型DBR层、AlxGa(1-x)As层及GaAs层,所述氧化层具有一介质孔;所述第一方向垂直于所述衬底,且由所述衬底指向所述外延叠层;

第一电极,其层叠于所述GaAs层背离所述AlxGa(1-x)As层的一侧的部分表面;

第二电极,其层叠于所述衬底背离所述N型DBR层的一侧表面;

石墨烯导电膜,其覆盖于所述外延叠层的裸露面并与所述第一电极形成连接,所述石墨烯导电膜包括依次层叠的第一绝缘层、石墨烯薄膜层、第二绝缘层,所述第一绝缘层或第二绝缘层直接层叠于所述外延叠层的裸露面。

2.根据权利要求1所述的具有石墨烯导电膜的VCSEL,其特征在于,在外延叠层的水平裸露面设有所述石墨烯导电膜,且所述石墨烯导电膜与所述介质孔在所述衬底表面的投影重合。

3.根据权利要求1所述的具有石墨烯导电膜的VCSEL,其特征在于,所述VCSEL具有一N型DBR裸露部,所述N型DBR裸露部自所述GaAs层经所述AlxGa(1-x)As层、P型DBR层、氧化层、P型波导限制层、量子阱以及N型波导限制层延伸至所述N型DBR层,以使所述N型DBR层的一部分被暴露在所述N型DBR裸露部。

4.根据权利要求3所述的具有石墨烯导电膜的VCSEL,其特征在于,所述N型DBR裸露部层叠有所述石墨烯导电膜。

5.根据权利要求4所述的具有石墨烯导电膜的VCSEL,其特征在于,所述N型DBR裸露部环绕所述外延叠层的四周;且所述石墨烯导电膜以被保持在所述N型DBR裸露部的方式层叠于所述N型DBR层,并环绕所述外延叠层的四周。

6.根据权利要求1或2或3或4或5所述的具有石墨烯导电膜的VCSEL,其特征在于,石墨烯薄膜层的厚度为λ/2,其中,λ为所述VCSEL芯片的光源波长。

7.根据权利要求6所述的具有石墨烯导电膜的VCSEL,其特征在于,所述AlxGa(1-x)As层的厚度为3λ/8,GaAs层的厚度为λ/8,第一绝缘层和第二绝缘层的厚度均为λ/8。

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