[实用新型]一种双抛机载具清洗用固定装置

说明书

本实用新型提供一种双抛机载具清洗用固定装置，具有用于放置载具的主支架和用于固定所述主支架的支撑架，所述主支架置于所述支撑架一侧并朝远离所述支撑架一侧延伸设置，所述主支架贯穿若干所述载具并使所述载具并行立放设置。本实用新型设计的固定装置，结构设计合理，与现有双抛机载具相适配，可放置多组载具并使载具间隔并排立放，使立放的载具更有利于其在清洗槽内清洗，不仅增加载具放置的稳定性，而且可防止其在清洗过程中晃动，清洗质量好，清洗效率高。

技术领域

本实用新型属于半导体硅片抛光清洗设备技术领域，尤其是涉及一种双抛机载具清洗用固定装置。

背景技术

在半导体硅片的抛光过程中，承载硅片的双抛光载具是硅片抛光的重要辅助装置之一，主要负责是承载和固定硅片，直接关系着硅片抛光质量与否。双抛机使用的抛光液的主要成分是SiO₂、NH₄OH形成的胶体，很容易在双抛机内部以及双抛机载具表面形成SiO₂结晶，需要及时清洗去除这些SiO₂结晶颗粒。现有主要是自动化清洗代替以往的人工清洗，但在清洗过程中，如何固定载具并使之稳定放置在清洗槽中是保证其表面清洗完全的重要条件。

实用新型内容

本实用新型提供一种双抛机载具清洗用固定装置，解决了如何固定载具并使之稳定放置在清洗槽中的技术问题。

为解决上述技术问题，本实用新型采用的技术方案是：

一种双抛机载具清洗用固定装置，具有支撑架和用于放置载具的主支架，所述主支架置于所述支撑架一侧并朝远离所述支撑架一侧延伸设置；所述主支架贯穿若干所述载具并使所述载具并行立放设置。

进一步的，所述支撑架为T型结构，包括横梁和与所述横梁连接的竖梁，所述主支架垂直于所述竖梁远离所述横梁一端设置。

进一步的，所述主支架横截面为菱形结构，其长内角边与所述竖梁长度轴线平行设置。

进一步的，所述主支架上端部设有若干间隔且开口朝外设置的卡槽，所述卡槽沿所述主支架长度方向等间距设置。

进一步的，所述主支架上段部两侧面交错设有若干凸台，所述凸台垂直于所述主支架上段部两侧面设置。

进一步的，交错设置的所述凸台分设于所述卡槽两侧，并与所述卡槽对应设置。

进一步的，还设有与所述主支架并行设置的若干副支架，所述副支架均通过连杆与所述支撑架靠近所述主支架一端铰接。

进一步的，所述副支架与所述连杆垂直设置，所述副支架横截面为长方形结构。

进一步的，所述副支架与所述主支架长度相同。

进一步的，所述连杆靠近所述副支架一端设有可调杆，所述可调杆两端分别连接相邻所述连杆。

采用本实用新型设计的固定装置，通过主支架可放置多组双抛机载具，并使载具间隔并排立放，使立放的载具更有利于其在清洗槽内清洗；主支架的横截面为菱形结构与载具中的菱形通液孔的结构相适配，更有利于其支撑固定；同时在主支架的上端部设有若干均匀间隔设置卡槽，更便于载具放置，亦可放置多组载具，提高清洗效率；在主支架上段部的两侧均设有沿所在面垂直的凸台，可防止被放置的载具晃动，保持其在清洗时的稳固性；进一步的，还设有对称设置的副支架，用于贯穿载具另外两个菱形结构的通液孔，且副支架的长度与主支架一致，副支架与支撑架为铰接固定，便于调整其与载具的配合位置。

附图说明

图1是现有双抛机载具的结构示意图；

图2是本实用新型实施例一的固定装置与载具的配合图；

图3是本实用新型实施例一的固定装置的结构示意图；

图4是本实用新型实施例一的固定装置的侧面图；