[实用新型]一种光学平面元件简易高速抛光装置有效

专利信息
申请号: 202020998097.0 申请日: 2020-06-03
公开(公告)号: CN212265487U 公开(公告)日: 2021-01-01
发明(设计)人: 田军;史成浡;南勇;耿浩;张琪;王淑宁 申请(专利权)人: 河南平原光电有限公司
主分类号: B24B29/00 分类号: B24B29/00;B24B57/02;B24B57/00
代理公司: 焦作市科彤知识产权代理事务所(普通合伙) 41133 代理人: 秦贞明
地址: 454150*** 国省代码: 河南;41
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摘要:
搜索关键词: 一种 光学 平面 元件 简易 高速 抛光 装置
【说明书】:

实用新型涉及一种光学平面元件简易高速抛光装置,公开了包括水锅和机架,所述水锅设置于机架上,所述水锅上部的机架上设有镜盘铁笔,所述水锅内设有抛光液循环添加系统和抛光液搅拌系统,所述抛光液循环添加系统包括潜水泵、抛光液管;所述抛光液搅拌系统包括排刷。本实用新型的有益效果是:尤其适应一些老旧单轴抛光设备进行改造,改造后,由于抛光液的供给及时和浓度合适,抛光设备的主轴转速也就可以调高,实现高速抛光,从而提高生产效率。本申请结构简单、制造方便、成本较低,使用范围广,操作方便,因此具有良好经济性和可推广性。

技术领域

本实用新型涉及光学元件抛光加工设备领域,具体涉及一种光学平面元件简易高速抛光装置。

背景技术

单轴抛光机是一种传统的低速抛光设置,其一般工作方式为,通过抛光液添加管注射抛光液到抛光模上表面,抛光后的液体流入水锅中,再从水锅底部或者侧边设置的出口流入到机架底部的容纳腔内,再经过水泵的抽取循环注射到抛光模上。这种结构存在以下缺陷,一是抛光后的液体中含有大量抛光粉粉末,这类物质会沉淀到水锅底部,需要经常对水锅进行清洗,而对水锅进行清洗则需要拆掉上面的抛光模才能进行清洗,极其繁琐,费工费时;并且还导致所述液体内抛光粉浓度降低,影响抛光效率;二是需要经常补充有效抛光液;这两种缺陷导致现有单轴抛光机不能发挥其驱动电机的高转速优势,因为抛光液不能及时跟上的情况下,高转速能耗高且效率并不能提高,只能采用中低转速使用。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决上述问题,并提供了一种光学平面元件简易高速抛光装置。

为了完成上述目标,本实用新型提供以下技术方案:一种光学平面元件简易高速抛光装置,包括水锅和机架,所述水锅设置于机架上,所述水锅上部的机架上设有镜盘铁笔,所述水锅内设有抛光液循环添加系统和抛光液搅拌系统,所述抛光液循环添加系统包括潜水泵、抛光液管;所述抛光液搅拌系统包括排刷;

所述机架底部设有驱动电机,驱动电机的主轴通过水锅底部中心深入到水锅内,所述主轴顶部固定连接有抛光模,所述镜盘铁笔下部固定连接有工件盘;所述水锅内围绕主轴设有一圈挡水圈,所述挡水圈和水锅壁之间形成环形槽体,槽体内设有抛光液;所述抛光模底壁上固定连接排刷的刷柄末端,排刷的刷毛端与水锅锅底接触;所述潜水泵放置于槽体底部且被抛光液淹没,所述抛光液管一端连接潜水泵的出水口,另一端朝向抛光模上表面。

优选的,所述抛光液管出水口设有滤网,主要用于过滤一些比较大的杂质颗粒,避免磨损抛光面。

本申请的工作方式及原理为:通过在水锅内设置挡水圈形成一圈环形槽体,环形槽体将抛光模上留下来的抛光液聚集并且通过潜水泵重新输送至抛光模上;抛光模下方固定设置有排刷,排刷随着抛光模一起转动,一方面排刷的刷毛端将槽体底部沉积的抛光粉扫起,避免沉淀,另一方面利用排刷对抛光液进行搅拌,使之混合均匀。

本实用新型的有益效果是:尤其适应一些老旧单轴抛光设备进行改造,改造后,由于抛光液的供给及时和浓度合适,抛光设备的主轴转速也就可以调高,从而实现高速抛光,提高生产效率。本申请结构简单、制造方便、成本较低,使用范围广,操作方便,因此具有良好经济性和可推广性。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

具体实施方式

下面将结合附图对本实用新型的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。

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