[实用新型]一种水合负氧离子产生装置

权利要求书

1.一种水合负氧离子产生装置，包括基座(1)、负离子针(2)及能产生水雾的水雾发生组件(3)，所述基座(1)内部中空形成离子发生腔(10)，所述负离子针(2)设于离子发生腔(10)中，所述水雾发生组件(3)的输出端口(30)与离子发生腔(10)相连通，其特征在于：所述基座(1)侧壁的至少局部自下而上逐渐向外倾斜，所述基座倾斜的侧壁(11)上开有供空气进入离子发生腔(10)中的输入口(12)，所述基座(1)底壁上开有供水雾输入离子发生腔(10)中的开口(13)，所述基座(1)顶部开有供水合负氧离子输出的输出口(14)。

2.根据权利要求1所述的水合负氧离子产生装置，其特征在于：所述水雾发生组件(3)的上部对应开口(13)布置，所述基座(1)的底壁自外边缘向开口(13)处逐渐向下倾斜形成能将冷凝水向下引导从而回流至水雾发生组件(3)中的导流面(15)。

3.根据权利要求2所述的水合负氧离子产生装置，其特征在于：所述基座(1)底壁上自开口(13)边缘向下延伸形成装配套(16)，且该装配套(16)与导流面(15)之间通过平滑过渡的导流弧面(151)相衔接，所述水雾发生组件(3)的上部自下而上伸入装配套(16)中。

4.根据权利要求3所述的水合负氧离子产生装置，其特征在于：所述输出端口(30)位于水雾发生组件(3)的顶部，该输出端口(30)对应开口(13)布置，所述水雾发生组件(3)上部的侧壁上设置有供装配套(16)中的冷凝水回流至水雾发生组件(3)中的回流结构。

5.根据权利要求4所述的水合负氧离子产生装置，其特征在于：所述水雾发生组件(3)包括水箱(31)、超声波雾化片(32)及吸水件(33)，所述水箱(31)脱卸式设于基座(1)下方，所述超声波雾化片(32)位于装配套(16)顶部且通过吸水件(33)与水箱(31)相连接，所述吸水件(33)通过装配座(34)约束在装配套(16)的下端口处并将该下端口覆盖，所述回流结构为开设于装配座(34)侧壁上的回流口(341)。

6.根据权利要求1 ~ 5中任一权利要求所述的水合负氧离子产生装置，其特征在于：所述基座(1)下方设置有电路板(4)，所述负离子针(2)的下端连接于该电路板(4)上、上端向输入口(12)处延伸。

7.根据权利要求6所述的水合负氧离子产生装置，其特征在于：所述负离子针(2)的上部穿过基座(1)底壁竖向布置在负离子发生腔(10)中且靠近输入口(12)布置。

8.根据权利要求6所述的水合负氧离子产生装置，其特征在于：所述负离子针的上部斜向上弯折至上端靠近输入口的下边缘布置。

9.根据权利要求1 ~ 5中任一权利要求所述的水合负氧离子产生装置，其特征在于：所述基座(1)的顶部具有与其脱卸式连接的顶盖(17)，所述输出口(14)开设于该顶盖(17)上，所述顶盖(17)的下壁面上设置有自边缘向中部逐渐向下延伸的导流筋(171)，且该导流筋(171)的下端对应开口(13)内缘布置。

10.根据权利要求9所述的水合负氧离子产生装置，其特征在于：所述顶盖(17)下壁面在对应开口(13)处设置有挡板(172)，该挡板(172)的边缘处设置有自边缘向中间逐渐向上拱起的弧形导流条(173)，且该导流条(173)的下端与导流筋(171)下端相连接。