[实用新型]一种深紫外正装结构的LED芯片有效
申请号: | 202021040841.2 | 申请日: | 2020-06-09 |
公开(公告)号: | CN214043697U | 公开(公告)日: | 2021-08-24 |
发明(设计)人: | 张晓娜;崔志勇;张向鹏;李勇强 | 申请(专利权)人: | 山西中科潞安紫外光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L33/32 | 分类号: | H01L33/32;H01L33/36;H01L33/20 |
代理公司: | 北京和信华成知识产权代理事务所(普通合伙) 11390 | 代理人: | 张永辉 |
地址: | 046000 山西*** | 国省代码: | 山西;14 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 深紫 外正装 结构 led 芯片 | ||
1.一种深紫外正装结构的LED芯片,其特征在于,包括:
外延层结构,所述外延层结构包括PN结,所述PN结的顶部设置有P型AlGaN层、量子阱层以及N型AlGaN层;
电极,所述电极包括N电极、P电极,所述N电极与所述N型AlGaN层直接连接;
GaN层,设置在所述P型AlGaN层的上表面,所述P电极设置在所述GaN层的上表面,GaN层的图案形状与所述P电极图案的形状匹配;
ITO层,所述ITO层设置在所述P型AlGaN层的上表面,位于所述GaN层的周围。
2.根据权利要求1所述的一种深紫外正装结构的LED芯片,其特征在于,所述GaN层的截面面积为所述P电极图案截面面积的120%-150%。
3.根据权利要求1或2所述的一种深紫外正装结构的LED芯片,其特征在于,所述深紫外正装LED芯片的上表面还包括钝化层。
4.根据权利要求3所述的一种深紫外正装结构的LED芯片,其特征在于,所述钝化层采用SiO2层。
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