[实用新型]一种单晶生产线及水冷装置有效
申请号: | 202021048998.X | 申请日: | 2020-06-09 |
公开(公告)号: | CN212316280U | 公开(公告)日: | 2021-01-08 |
发明(设计)人: | 马腾飞;汪奇;龙昭钦;兰志勇 | 申请(专利权)人: | 四川晶科能源有限公司 |
主分类号: | C30B15/00 | 分类号: | C30B15/00;C30B29/06 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 刘新雷 |
地址: | 614802 四川省*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 生产线 水冷 装置 | ||
本实用新型公开了单晶生产线及水冷装置,该水冷装置包括呈管状的外层水冷壁;嵌套于所述外层水冷壁的内侧壁的底部且呈管状的内层水冷壁;与所述外层水冷壁和所述内层水冷壁相连、用以实现供水和出水的给水机构。上述水冷装置的冷却效果更好,提高了熔融态单晶的凝固速度,解决了单晶棒生产效率低的问题。
技术领域
本实用新型涉及单晶棒生产技术领域,特别是涉及一种水冷装置。此外,本实用新型还涉及一种包括上述水冷装置的单晶生产线。
背景技术
众所周知,硅是最常见应用最广的半导体材料,当熔融的单质硅凝固时,硅原子以金刚石晶格排列成晶核,其晶核长成晶面取向相同的晶粒,形成单晶硅。单晶硅作为一种比较活泼的非金属元素晶体,是晶体材料的重要组成部分,处于新材料发展的前沿,其主要用途是用作半导体材料和利用太阳能光伏发电等。
在单晶硅生产技术领域,目前大多企业采用单层水冷装置进行拉晶,但是单层水冷装置的冷却效果较差,难以提高熔融态单晶的提拉速度。
因此,如何提高单晶的冷却效率是本领域技术人员亟待解决的问题。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种水冷装置,该水冷装置的冷却效果更好,提高了熔融态单晶的凝固速度,解决了单晶棒生产效率低的问题。本实用新型的另一目的是提供一种包括上述水冷装置的单晶生产线。
为实现上述目的,本实用新型提供一种水冷装置,包括:呈管状的外层水冷壁;嵌套于所述外层水冷壁的内侧壁的底部且呈管状的内层水冷壁;与所述外层水冷壁和所述内层水冷壁相连、用以实现供水和出水的给水机构。
优选地,所述给水机构包括:与所述内层水冷壁相连的第一供水管;连通所述内层水冷壁和所述外层水冷壁的导水管;与所述外层水冷壁相连的出水管。
优选地,所述外层水冷壁和所述内层水冷壁二者的内部均具有环绕水通路。
优选地,所述供水管与所述内层水冷壁的第一侧的顶部相连,所述导水管的两端分别连接所述内层水冷壁的第一侧的顶部和所述外层水冷壁的第一侧的顶部,所述出水管与所述外层水冷壁的第二侧的顶部相连。
优选地,所述内层水冷壁的环绕水通路内的第一侧设有挡壁,以分隔所述内层水冷壁的进水口和出水口。
优选地,所述外层水冷壁与所述内层水冷壁可拆卸连接。
优选地,所述给水机构还包括与所述外层水冷壁的进水口相连的第二供水管。
相对于上述背景技术,本实用新型提供的水冷装置,通过设置内层水冷壁和外层水冷壁来提高单晶的冷却效率。具体来说,外层水冷壁和内层水冷壁嵌套设置,给水机构向外层水冷壁和内层水冷壁提供冷水并将经过换热后的水引出,进而增大熔融态单晶的凝固速度。
本实用新型还提供一种单晶生产线,包括:用以拉制熔融态单晶的单晶炉;设于所述单晶炉内、用以冷却熔融态单晶并形成单晶棒且如上述任一项所述的水冷装置。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据提供的附图获得其他的附图。
图1为本实用新型所提供的一种水冷装置的结构示意图;
图2为本实用新型所提供的一种水冷装置的底部的剖视图;
其中,
01-单晶棒、1-外层水冷壁、2-内层水冷壁、3-第一供水管、4-导水管、5-出水管。
具体实施方式
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